EDI設(shè)備技術(shù)介紹：    

    EDI電去離子設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水，RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μS/cm（25℃)，EDI純水電阻率可以高達(dá)

17MΩ.cm(25℃ )，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)工藝、配置不同，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm (25℃)的

超純水。

EDI設(shè)備特點(diǎn)：

1、產(chǎn)水水質(zhì)高且穩(wěn)定、連續(xù)；

2、操作簡(jiǎn)單、安全；

3、不會(huì)因再生而停機(jī)；

4、不需酸、堿化學(xué)藥劑再生；

5、運(yùn)行費(fèi)用低于混床；

6、占地面積??；

7、無(wú)污水排放；

8、容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制

 EDI設(shè)備進(jìn)水水質(zhì)要求：

1、TEA (含CO2 ) < 25mg/L as CaCO3；

2、PH值：5－9；

3、總硬度< 1 mg/L as CaCO3； 

4、硅< 0.5 mg/L；

5、TOC< 0.5 mg/L；

6、余氯< 0.05 mg/L；

7、Fe，Mn，H2S < 0.01 mg/L； 

8、電導(dǎo)率40-2μS/cm（25℃)。

應(yīng)用領(lǐng)域：

1、電廠化學(xué)水處理；

2、電子、半導(dǎo)體、精密機(jī)械行業(yè)超純水；

3、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水；

4、制藥工業(yè)工藝用水；

5、其他行業(yè)所需的高純水制備。