詳細介紹

設備特點
·設備骨架用不銹鋼制作,外包白色PP板
·隔板:在1#、2#槽和3#、4#之間有隔板,1#槽單獨排風,防止1#槽中揮發(fā)得有機氣體與其他氣體混合發(fā)生反應
·設備共有4個槽,按藥液槽內,純水沖洗槽外和方便生產操作的一般工藝流程依次排列
·設備采用數(shù)顯時間繼電器,清洗時間可在1-9999秒范圍內設定,結束時報警排風系統(tǒng)通過設備后部夾層,從設備頂部接觸排氣管與用戶排氣系統(tǒng)連接成本
·氮四氟乙烯空1把/水槍1把 成本
·設有漏電、急停、液位、過溫等保護和報警裝置,保證設備的可靠成本
·適用于批量生產和科研試驗
設備規(guī)格
·單臂結構
·整體由機架,操作臺面,引風裝置,機臺照明,電控單元及清洗槽體等組成
·本半導體硅片清洗設備的引風裝置由引風窗和排風口所組成
·機臺臺面為多孔結構,有利于操作臺面水液的排出和清潔
·照明采用20W照明燈管
·本半導體硅片清洗機每個槽體均有控制器進行控制,其工藝參數(shù)均可單獨修改
·電控單元設備在機臺的左上部,控制鍵盤,啟停按鈕以及急停開關均設置其上
·加熱槽體采用氟加熱管,有保溫裝置

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