金剛石清洗超純水設(shè)備，是用于金鋼石(磚石)清洗專用水的一種純水制取設(shè)備，它通過是利用反滲透膜分離技術(shù)，產(chǎn)生的水可以有效去除懸浮物，膠體，細(xì)菌，微生物，導(dǎo)電離子等雜質(zhì)，從而達(dá)到水質(zhì)要求。

　　工廠

　　深圳廣川環(huán)保專注于做金剛石清洗超純水設(shè)備，10年水處理廠家，我們集生產(chǎn)銷售和安裝維護(hù)于一體。產(chǎn)品經(jīng)過ce認(rèn)證，質(zhì)量可靠，全國(guó)上門安裝，終身維護(hù)，讓您售后無(wú)憂。

　　價(jià)格

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　　金剛石清洗用超純水設(shè)備工藝設(shè)計(jì)

　　1.傳統(tǒng)工藝：預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對(duì)象

　　2.新工藝：預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)

　　3.新工藝：預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)

　　4.新工藝：預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)

　　5.傳統(tǒng)工藝：預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對(duì)象 (≥15MΩ.CM)

　　金剛石清洗用超純水設(shè)備的特點(diǎn)

　　1.反滲透純水設(shè)備是一種物理淡化方法，在許多方面都具有不同的優(yōu)勢(shì)。

　　2.室溫操作不采用物理相變方法來(lái)淡化和凈化含鹽的給水。目前，單個(gè)反滲透膜元件可達(dá)到98，并且可以去除膠體，有機(jī)物，細(xì)菌，病毒等。在同一時(shí)間的水。

　　3.以水壓為驅(qū)動(dòng)力，許多處理方法的能耗都較低。

　　4.不需要大量的化學(xué)處理，沒有化學(xué)廢液的排放，也沒有環(huán)境污染。

　　5.回收率高，達(dá)到70以上。

　　6.自動(dòng)化程度高，故障自動(dòng)停機(jī)，具有自動(dòng)保護(hù)功能。

　　7.可以連續(xù)生產(chǎn)水，系統(tǒng)簡(jiǎn)單，操作方便，水質(zhì)穩(wěn)定。

　　8.設(shè)備占地面積小，結(jié)構(gòu)緊湊，運(yùn)行可靠，水質(zhì)高等諸多優(yōu)點(diǎn)。

　　技術(shù)參數(shù)

　　1.濁度：<0.2NTU(大1.0NTU)

　　2.色度：<3(大5)

　　3.PH值范圍：4—11

　　4.游離余氯：<0.1mg/L

　　5.水溫：5—45°C

　　6.鐵、錳：<0.05mg/L(大0.1mg/L)

　　7.化學(xué)耗氧量(COD)：<10mg/L

　　8.生物耗氧量(BOD)：<5mg/L

　　金剛石清洗用超純水設(shè)備還可以用在哪些領(lǐng)域

　　1.液晶顯示器的生產(chǎn)和顯示表面應(yīng)用純凈水清洗并與純凈水混合。

　　2.在晶體管的生產(chǎn)中，主要用于清潔硅片，少量用于制備化學(xué)液體。

　　3.在集成電路生產(chǎn)中，用高純水清洗硅片。

　　4.半導(dǎo)體材料，器件，印刷電路板和集成電路。

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