PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學氣象沉積（CVD）反應溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離，形成等離子體，

利用等離子體的活性來促進反應，所以這個系統(tǒng)稱為增強型化學氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）。

主要特點：

1. 管內(nèi)真空度自動平衡——管內(nèi)真空度實時監(jiān)測，自動平衡。PECVD工藝要求石英管內(nèi)真空度通常在0.1～100Pa之間，該型號PECVD的AIO控制系統(tǒng)會通過真空泵的自動啟停來維持用戶設定的管內(nèi)真空度，使成膜效果達的均勻性。

2. AIO控制系統(tǒng)——加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統(tǒng)控制集中于一個7英寸觸摸屏進行統(tǒng)一集中調(diào)節(jié)和操控，協(xié)調(diào)控制——成儀AIO控制系統(tǒng)；

3. 射頻功率的定時控制——預先設定好功率的大小和打開與關閉的時間，自動運行；

4. 爐膛移動速度可調(diào)——根據(jù)實驗要求，用戶可設定爐膛左右移動的速度可距離，在沉積結(jié)束后爐膛可自動移開沉積區(qū)，使樣品快速冷卻；

5.增加了氣體預熱溫區(qū)，在氣體電離前把反應氣體加熱到實驗溫度，使得沉積效果更佳穩(wěn)定，縮短沉積時間。