詳細(xì)介紹
該產(chǎn)品主要適用于近空間升華法制備樣品薄膜,例如CdTe和CdS薄膜。設(shè)備結(jié)構(gòu)上采用雙管結(jié)構(gòu),外管直徑為110mm,一端封閉,內(nèi)管直徑為90mm。工藝氣氛從外管通入,內(nèi)管流出,使得氣氛更充分地與樣品接觸。通過(guò)爐膛左右移動(dòng)實(shí)現(xiàn)快速升降溫。

結(jié)構(gòu)特點(diǎn):
1. 爐膛內(nèi)采用上下兩層加熱結(jié)構(gòu),分別負(fù)責(zé)襯底和源的加熱。加熱元件為雙絲鹵鎢紅外燈管。
2. 爐膛加熱到用戶設(shè)定的時(shí)間后自動(dòng)移開(kāi),實(shí)現(xiàn)快速降溫。
3. 實(shí)驗(yàn)完成后可將放料托架打開(kāi),將石英外管移動(dòng)到左端,露出樣品可方便取放。
4. 7英寸觸摸屏操作,設(shè)定曲線實(shí)時(shí)顯示。
5. 本方案采用兩塊石墨板對(duì)樣品襯底和源進(jìn)行分別均熱,上下層熱電偶探頭分別插入石墨板內(nèi)進(jìn)行控溫,使得兩部分的溫度均勻性分別達(dá)到3℃以內(nèi)。
| 項(xiàng)目: | 參數(shù) |
| 真空: | 極限真空度≤10-3Pa(需配分子泵機(jī)組)系統(tǒng)抽真空能力(大氣到10-2Pa)≤5min |
| 真空獲?。?/td> | 采用分子泵機(jī)組真空系統(tǒng)達(dá)到≤10-3Pa,或2L直聯(lián)旋片式機(jī)械泵達(dá)到≤10Pa |
| 真空計(jì): | 皮拉尼高精度真空計(jì)(顯示1×10-3Pa) |
| 加熱方式: | 燈管紅外加熱 |
| 溫度: | 800℃ |
| 升溫速率: | 10℃/s |
| 降溫速率: | 1、可控降溫(軟件自動(dòng)控制);2、自然冷卻(移走加熱爐膛) |
| 溫控精度: | ≤±1℃ |
| 溫控方式: | 分區(qū)加熱,分區(qū)控溫。如圖所示,襯底加熱與源加熱分離,獨(dú)立控溫。石墨塊內(nèi)有測(cè)溫點(diǎn),可監(jiān)控基板溫度。平臺(tái)三個(gè)部分可獨(dú)立移動(dòng)?;澹▽?shí)驗(yàn)樣品) |
| 尺寸: | 3inch×3inch |
| 溫控系統(tǒng): | 可實(shí)現(xiàn)精確自動(dòng)控溫,10段升降溫程序,預(yù)存100條以上曲線 |
| 測(cè)溫方式: | K型熱電偶 |
| 控溫點(diǎn): | 2個(gè)(上下石墨勻熱板) |
| 測(cè)溫點(diǎn): | 3個(gè)臨時(shí)測(cè)溫點(diǎn),可通過(guò)法蘭處插入到腔內(nèi)不同位置,用來(lái)檢測(cè)腔體溫度分布。 |
| 恒溫區(qū): | 100mm(處理1片3inch×3inch基板) |
| 恒溫區(qū)爐溫均勻性: | ±3℃ |
| 溫度自動(dòng)補(bǔ)償功能: | 溫控儀增加環(huán)境溫度自動(dòng)補(bǔ)償功能 |
| 工藝氣氛: | O2,N2,干燥空氣,3路供氣(可實(shí)現(xiàn)氣氛不同比例混合) |
| 氣體控制: | O2:0~500sccm 精度:±1.0%F.S. N2:0~500sccm 精度:±1.0%F.S.干燥空氣:0~1000sccm 精度:±1.0%F.S. |
| 冷卻循環(huán)水: | 連接法蘭(8mm寶塔接頭) |
| 樣品冷卻: | 爐膛自動(dòng)移開(kāi),強(qiáng)制風(fēng)冷 |
| 額定功率: | 220V,15kw |
| 外形尺寸: | 長(zhǎng)920×深500×高560 |
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