一、設(shè)備用途及工藝條件簡述

1.1、設(shè)備用途：用于氣氛保護下燒結(jié)、真空下反應(yīng)燒結(jié)等

1.2、爐內(nèi)氣氛：氮氣、氬氣等保護性氣體

1.3、真空度：可抽真空，≤10Pa （配機械泵）

1.4、作業(yè)方式：手動取放樣品

1.5、使用環(huán)境：環(huán)境溫度≤40℃，相對濕度≤85%，設(shè)備周圍無導電塵埃和易燃易爆氣體。

二、主要特點：

真空井式坩堝爐，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。其爐膛保溫材料采用整體真空吸附成型，程控鑲嵌進口電阻絲，超大口徑的石英爐腔（石英桶）和真空水冷密封法蘭系統(tǒng)，可以在流動氣氛和真空狀態(tài)下快速加熱樣品，能很好的替代真空箱式爐。爐子上部配有泄壓閥，很好保證在通氣氛使用情況下的安全。

三、主要技術(shù)參數(shù)

該設(shè)備可添加我司自主研發(fā)的真空平衡系統(tǒng)，實現(xiàn)動態(tài)的真空平衡既邊通氣氛邊抽真空使其腔體內(nèi)部壓力穩(wěn)定在設(shè)定負壓，精度±1Pa。亦可不通氣氛只抽真空實現(xiàn)所需要的真空度。