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詳細(xì)摘要： XRF-2000電鍍層測厚儀，X射線熒光鍍層測厚儀,Micro Pioneer XRF-2000 系列熒光金屬鍍層測厚儀能提供金屬鍍層厚度的測量,同時(shí)可對電鍍液...

詳細(xì)摘要： XRF-2000L鍍層膜厚測試儀檢測電子電鍍,化學(xué)鍍層厚度,如鍍金,鍍鎳,鍍銅,鍍鉻,鎳鋅,鍍銀,鍍鈀...可測單層,雙層,多層,合金鍍層,測量范圍:0.04-...

詳細(xì)摘要： XRF-2000PCB膜厚儀檢測電子電鍍,化學(xué)鍍層厚度,如鍍金,鍍鎳,鍍銅,鍍鉻,鎳鋅,鍍銀,鍍鈀...可測單層,雙層,多層,合金鍍層,測量范圍:0.04-35...

詳細(xì)摘要： X-RAY膜厚標(biāo)準(zhǔn)片，測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,測厚儀校準(zhǔn)片,膜厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,鍍層測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,測厚儀校準(zhǔn)片,膜厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,鍍層測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片，X射線測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片

詳細(xì)摘要： X-RAY膜厚標(biāo)準(zhǔn)片，測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,測厚儀校準(zhǔn)片,膜厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,鍍層測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,測厚儀校準(zhǔn)片,膜厚儀標(biāo)準(zhǔn)片,鍍層測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片，X射線測厚儀標(biāo)準(zhǔn)片

詳細(xì)摘要： 覆銅板抗剝離強(qiáng)度測試儀 按IPC-TM-650試驗(yàn)方法手冊中的2.4.8和2.4.9設(shè)計(jì)制造，專業(yè)用于覆銅層壓板和印制線路板工業(yè)的實(shí)驗(yàn)室外中測量柔性板和剛性板上...

詳細(xì)摘要： 美國C6化學(xué)銅自動(dòng)加藥控制器，C6沉銅加藥控制器，C6銅自動(dòng)加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化能減少人工滴定檢驗(yàn)的需要應(yīng)用...

詳細(xì)摘要： 美國禾威WCT400冷卻塔加藥控制器,WCT410冷卻塔控制器,WCT410冷卻塔加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化能減少...

詳細(xì)摘要： 供應(yīng)WEC410酸性蝕刻鹽酸導(dǎo)電率控制器 ,WEC410導(dǎo)電率控制器,WEC410導(dǎo)電率加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化...

詳細(xì)摘要： WALCHEM禾威WEC410酸性蝕刻控制器 ,WEC410導(dǎo)電率控制器,WEC410導(dǎo)電率加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的...

詳細(xì)摘要： 美國禾威WEC410系列導(dǎo)電率控制器,WEC410導(dǎo)電率控制器,WEC410導(dǎo)電率加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化能減少...

詳細(xì)摘要： WALCHEM禾威WPH410系列pH控制器,WPH410控制器,WPH410PHORP加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化...

詳細(xì)摘要： WALCHEM禾威WCU410微蝕刻銅控制器,WCU410沉銅控制器,WCU410鍍銅加藥設(shè)備--詳細(xì):美國WALCHEM 系列WCU4105N2N控制器是應(yīng)用...

詳細(xì)摘要： 美國禾威WCU410化學(xué)鍍銅加藥控制器,WCU410沉銅控制器,WCU410鍍銅加藥設(shè)備--詳細(xì):美國WALCHEM 系列WCU4105N2N控制器是應(yīng)用光電原...

詳細(xì)摘要： WALCHEM禾威WPH410系列pH控制器,WPH410控制器,WPH410PHORP加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化...

詳細(xì)摘要： WALCHEM禾威WNI410化學(xué)沉鎳添加控制器,WNI410沉鎳控制器,WNI410鍍鎳加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變...

詳細(xì)摘要： 美國禾威WNI410化學(xué)鍍鎳控制器,WNI410沉鎳控制器,WNI410鍍鎳加藥設(shè)備--詳細(xì):是應(yīng)用光電原理在線分析電鍍缸內(nèi)鍍銅或蝕銅溶液濃度的變化能減少人工滴...

詳細(xì)摘要： 美國禾威WCU410沉銅控制器添加設(shè)備,WCU410沉銅控制器,WCU410鍍銅加藥設(shè)備--詳細(xì):美國WALCHEM 系列WCU4105N2N控制器是應(yīng)用光電原...

詳細(xì)摘要： 德國MD-200COD檢測儀，適用于0-150、0-1500、0-15000 mg/l三種范圍，符合USEPA 410.4、ISO15705標(biāo)準(zhǔn)方法。

詳細(xì)摘要： 便攜式COD檢測儀適用于0-150、0-1500、0-15000 mg/l三種范圍，符合USEPA 410.4、ISO15705標(biāo)準(zhǔn)方法。