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JMP-2B雙盤(pán)金相磨拋機(jī)在金相試驗(yàn)室，金相試樣制備過(guò)程中，試樣的預(yù)磨、拋光、研磨、是多道*的程序

詳細(xì)介紹

詳細(xì)：

JMP-2B雙盤(pán)金相磨拋機(jī)在金相試樣制備過(guò)程中，試樣的磨光與拋光是二項(xiàng)非常重要的工序，通常是采用金相試樣預(yù)磨機(jī)和金相試樣拋光機(jī)二種設(shè)備來(lái)完成，為適應(yīng)我國(guó)工業(yè)和科技發(fā)展的需要，結(jié)合用戶的使用要求，我公司新設(shè)計(jì)制造JMP-2B雙盤(pán)金相磨拋機(jī)。該機(jī)經(jīng)久耐用，維護(hù)保養(yǎng)也極為方便，使用時(shí)只需更換磨盤(pán)或拋盤(pán)，就能完成各種試樣的粗磨、細(xì)磨、干磨、濕磨及拋光等各道工序，為擴(kuò)大不同試樣的制備要求，該機(jī)的磨、拋盤(pán)直徑均大于國(guó)內(nèi)同類產(chǎn)品?？稍诠ぷ髅嫔嫌懈嗖煌€速度的選擇，可增加有效工作面20-30%，可提高試樣的磨拋質(zhì)量和試樣的制備效率，并該機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)，噪音低，是一種極為理想和功能*的*金相制樣設(shè)備。

主要參數(shù)：

磨盤(pán)直徑：	250mm
砂紙直徑：	230mm
拋盤(pán)直徑：	220mm
研磨盤(pán)直徑：	220mm
轉(zhuǎn)　　速：	50-1500r/min
電　動(dòng)　機(jī)：	變頻電機(jī)/380V
外形尺寸：	710×620×350mm
凈　　重：	80Kg

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JMP-2B雙盤(pán)金相磨拋機(jī)

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