光刻膠過(guò)濾 光刻的原理是在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過(guò)掩模照射在硅片表面，被光線照射到的光刻膠會(huì)發(fā)生反應(yīng)。此后用特定溶劑洗去被照射/未被照射的光刻膠， 就實(shí)現(xiàn)了電路圖從掩模到硅片的轉(zhuǎn)移。光刻工藝對(duì)極小污染物的控制苛刻到，同時(shí)嚴(yán)控過(guò)濾產(chǎn)品的金屬離子析出。耐腐蝕全氟濾芯采用進(jìn)口PTFE膜，進(jìn)口P......

材料結(jié)構(gòu)	操作條件	過(guò)濾精度(um)
濾材: 疏水聚四氟乙烯膜 內(nèi)芯: 聚丙烯 外罩: 聚丙烯 端蓋: 聚丙烯 墊片/O型圈: 硅橡膠、三元乙丙、氟橡膠、包四氟 密封技術(shù): 熱熔焊接	工作溫度：≤80℃ 可耐壓差：4 bar (21℃)／2.4bar (80℃) 滅菌方法：121℃/30min蒸汽滅菌	0.05、0.10、0.22、0.45、0.65、0.80、1.20 有效過(guò)濾面積 ≥0.65 m2/10〞
生物安全性	濾芯尺寸	完整性測(cè)試
內(nèi)毒素：≤0.25EU/ml 溶出物：≤30mg/10〞	外徑: 68mm 長(zhǎng)度: 5〞、10 〞、20 〞、30〞、40〞	起泡點(diǎn)測(cè)試（60%IPA）） 0.10um≥4.0bar 0.22um≥3.4bar 0.45um≥2.3bar
應(yīng)用領(lǐng)域
電子行業(yè)：電子級(jí)各類酸、堿、有機(jī)試劑過(guò)濾。 制藥行業(yè)：熔媒除菌過(guò)濾、腐蝕性、強(qiáng)氧化性液體、有機(jī)試劑等過(guò)濾。