產(chǎn)品特點：

SUS304不銹鋼電解拋光腔體；

前開門腔體設(shè)計，帶觀察窗；

4英寸襯底載盤，可升級至12英寸；

3支磁控濺射靶槍，可拓展至8支；

1600l/sec渦輪分子泵，串接機械泵或干泵；

13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及500-1000W DC直流電源；

共濺射或反應(yīng)濺射；

PLC+PC自動控制系統(tǒng)。

應(yīng)用領(lǐng)域：
半導(dǎo)體器件
微納米加工技術(shù)
氧化物金屬鍍膜
超導(dǎo)鍍膜，磁學(xué)鍍膜

選配項：

向上、向下或側(cè)面濺射；

RF、DC和脈沖DC濺射；

樣品可旋轉(zhuǎn)并加熱至300℃、500℃或800℃；

高真空泵可選擇分子泵、低溫泵或擴散泵；

全自動壓力控制系統(tǒng)；

高精度膜厚監(jiān)測儀；

基于襯底加偏壓或離子源的基片預(yù)清洗；

高真空loadlock。