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共濺射磁控濺射

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更新時(shí)間:2025-10-31 08:39:10瀏覽次數(shù):152

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

共濺射磁控濺射

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特點(diǎn):

SUS304不銹鋼電解拋光腔體;

前開門腔體設(shè)計(jì),帶觀察窗;

4英寸襯底載盤,可升級(jí)至12英寸;

3支磁控濺射靶槍,可拓展至8支;

1600l/sec渦輪分子泵,串接機(jī)械泵或干泵;

13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及500-1000W DC直流電源;

共濺射或反應(yīng)濺射;

PLC+PC自動(dòng)控制系統(tǒng)。

應(yīng)用領(lǐng)域:
半導(dǎo)體器件
微納米加工技術(shù)
氧化物金屬鍍膜
超導(dǎo)鍍膜,磁學(xué)鍍膜

選配項(xiàng):

向上、向下或側(cè)面濺射;

RF、DC和脈沖DC濺射;

樣品可旋轉(zhuǎn)并加熱至300℃、500℃或800℃;

高真空泵可選擇分子泵、低溫泵或擴(kuò)散泵;

全自動(dòng)壓力控制系統(tǒng);

高精度膜厚監(jiān)測(cè)儀;

基于襯底加偏壓或離子源的基片預(yù)清洗;

高真空loadlock。

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