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半導(dǎo)體晶片切割超純水設(shè)備

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【】半導(dǎo)體(semiconductor)指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料

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【 】半導(dǎo)體(semiconductor)指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多,按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類,鍺和硅是的元素半導(dǎo)體?;衔锇雽?dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外,還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。

半導(dǎo)體的生產(chǎn)必須要用的超純水,以下為半導(dǎo)體超純水設(shè)備常用工藝:

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。


2、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。


3、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)(工藝)。


4、預(yù)處理系統(tǒng)→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)(工藝)。


5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)(工藝)。


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