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芯片封裝等離子清洗機

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更新時間：2024-01-25 07:49:03瀏覽次數(shù)：249次

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深圳金鉑利萊科技有限公司

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產品簡介

詳細介紹

半導體真空等離子清洗處理機-金鉑利萊

>> 1-1 設備概要

真空等離子體清洗機(Vacuum Plasma cleaner)，腔體容積為60L。芯片封裝等離子清洗機是一款以電能將氣體轉化為活性的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結構的改變，從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗，在極短時間內有機污染物就被外接真空泵抽走，其清洗能力可以達到分子級，在一定條件下不僅能使樣品表面特性發(fā)生改變還能因為采用氣體作為清洗處理的介質，有效避免樣品的再次污染。

>> 2-1 真空等離子處理機組成簡介

等離子清洗機由反應腔（又稱真空腔）、真空系統(tǒng)、放電系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、進氣流量控制系統(tǒng)組成。本設備采用觸摸屏+PLC 可編程控制器，處理參數(shù)可以在觸摸屏上任意設定，具有手動/自動切換功能。自動操作采用“一鍵式" ，工作過程由計算機自動控制完成。手動操作由用戶在手動模式界面上自行完成.

半導體真空等離子清洗機工作原理圖-金鉑利萊.jpg

>>3-1 功能應用及參數(shù)設置

1、晶片等離子清洗

2、半導體等離子蝕刻

3、LED 的封裝

4、ITO膜的蝕刻等

5、半導體封裝引線框架清洗活化

6、Silicon Wafer 晶圓表面去除光刻膠與活化

......（等等）

系統(tǒng)標準配件
設備尺寸	1105W1488D1842Hmm（2158mm帶信號燈高度）
水平極板	8層
電極板	402W*450Dmm
氣體流量控制器，2路工藝氣體	0-300 ml/min
真空測量	日本ulvac真空計
人機界面觸摸屏	自主研發(fā)
電極向距	48mm
信號指示燈	3色帶警報
真空泵	90m3/h雙極油泵
系統(tǒng)電力＆機械
電源：AC380V，50/60Hz	額定功率5000W
系統(tǒng)重量(設備主機/真空泵)	＜600Kg
占地面積：設備主機	1805(W)×1988(D)×1842(H)mm
射頻電源
射頻電源頻率	13.56MHz
射頻電源功率	1000W
射頻電源匹配器	全自動匹配，優(yōu)良的空氣電容技術
設備條件
電源：AC380V，50/60Hz，三相五線	7.5KVA
壓縮空氣要求	無水無油CDA 60～90psig
抽風系統(tǒng)	≥2立方/分鐘，尾氣處理管道即可
系統(tǒng)環(huán)境溫度要求	≤30℃(室溫)
工藝氣體要求	15～20psig 99.996％或以上純度