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X射線光電子能譜儀- XPS

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更新時間:2026-03-22 08:20:25瀏覽次數(shù):85

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產(chǎn)品簡介

X射線光電子能譜儀- XPS

詳細介紹

世紀遠景
  • 產(chǎn)品名稱:X射線光電子能譜儀- XPS
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Thermo Scientific™ K-Alpha™ X 射線光電子能譜 (XPS) 系統(tǒng)升級了核心 XPS 性能,具有更快的數(shù)據(jù)采集速度、更好的檢測能力和更簡單化學(xué)態(tài)分辨分析。 激動人心的新硬件功能(如 XPS SnapMap)與全新的軟件功能(如 eSP 和 KnowledgeView 功能)整合,有助于進行能譜識別。 此外還有新的選件可供選擇,包括全自動紫外光電子能譜 (UPS)、真空傳送模塊和 Thermo Scientific™ MAGCIS™ 離子源,開啟了實驗新契機。

本儀器設(shè)備是由Thermo Fisher 公司推出的一款高性能、高測試效用于表面分析技術(shù)一款X射線光電子能譜(XPS) 。

儀器型號:Thermo SCIENTIFIC K-Alpha,是一種分析材料表面化學(xué)的技術(shù)。

單色器:K-Alpha X射線單色器可選擇30 µm至400 µm大小的分析區(qū)域,步長 5 µm。將分析區(qū)域調(diào)到感興趣的特征區(qū)域,使得信號。高效電子光學(xué)透鏡、半球形能量分析器和探測器使得儀器具有高靈敏探測能力,能快速獲得數(shù)據(jù)。

深度剖析:K-Alpha用標準離子源深入表面層以下進行分析。自動優(yōu)化源和自動供氣確保優(yōu)良的性能和實驗重復(fù)性。

化學(xué)態(tài)圖像:K-Alpha 能得到表面化學(xué)態(tài)像。用于分析樣品上的微小特征,能得到整個樣品臺大小的大樣品圖像。獨特的光學(xué)觀察系統(tǒng)可將XPS像與儲存的光學(xué)圖像重疊在一起,這一*功能可用于識別和定量分析表面化學(xué)組分的分布。

絕緣樣品分析:源采用離子和極地能量的電子,可使得樣品沒有荷電積累。在大多數(shù)情況下,無需荷電校準。

應(yīng)用領(lǐng)域

  • 玻璃涂層

  • 聚合物

  • 電池

  • 石墨烯

  • 太陽能電池

  • OLED

  • 金屬和氧化物

  • 生物表面

  • 薄膜

  • 半導(dǎo)體

  • 陶瓷

  • 催化劑

K-Alpha 重要特征和優(yōu)勢

  • Al Kα X 射線單色器可用于化學(xué)態(tài)高分辨分析

  • 微聚焦 X 射線探針可用于化學(xué)態(tài)成像分析

  • 的光學(xué)觀察系統(tǒng)可用于對中樣品上微小結(jié)構(gòu)和污染點分析位置

  • 聚焦深度剖析離子源可用于單層和多層膜分析

  • 一鍵式中和系統(tǒng)可用于精確的小面積分析

  • 128 通道探測器用于快速并行快照式采集數(shù)據(jù)

高性能 XPS 能譜

單色器和電子分析系統(tǒng)的發(fā)展使得 K-Alpha 在原來的基礎(chǔ)上能大幅提高 XPS 性能。 用戶使用全新的 X 射線單色器可選擇 50 µm 至 400 µm 大小的分析區(qū)域,步長為 5 µm。 分析區(qū)域能調(diào)到感興趣的特征區(qū)域,以獲得的信號。 高效電子光學(xué)透鏡、半球形能量分析器和探測器使得儀器具有高靈敏探測能力,能快速獲得數(shù)據(jù)。

絕緣樣品分析

K-Alpha 能譜儀的荷電補償使得儀器分析絕緣樣品就像分析非絕緣樣品一樣容易。 賽默飛世爾科技的雙束中和槍采用離子和極低能量的電子(低于 1 eV),可使得樣品沒有荷電積累。 在大多數(shù)情況下,無需荷電校正,讓分析絕緣樣品數(shù)據(jù)同數(shù)據(jù)采集一樣簡單。

XPS SnapMap

XPS SnapMap 與擁有的 K-Alpha 反射光學(xué)系統(tǒng)相結(jié)合,能提供快速 XPS 成像,實現(xiàn)特征位置的對中和鑒定。 XPS SnapMap 能生成幾 mm2 面積的圖像,所需時間遠遠小于生成全圖的時間,非常適合快速鑒定光學(xué)觀察無法輕易觀察到的分析區(qū)域。 XPS SnapMap 還能用在實驗中,進行快速定量能譜成像。

化學(xué)態(tài)成像

K-Alpha 能得到表面化學(xué)態(tài)像。 用于分析樣品上的微小特征,能得到整個樣品臺大小的大樣品圖像。 獨特的光學(xué)觀察系統(tǒng)可將 XPS 像與儲存的光學(xué)圖像重疊在一起,這一*功能可用于識別和定量分析表面化學(xué)組分的分布。

深度剖析

K-Alpha 采用標準離子源或 MAGCIS(可選雙模單原子和氣體團簇離子源),能深入表面層以下進行分析。 自動優(yōu)化源和自動供氣確保優(yōu)良的性能和實驗重復(fù)性。

精準的結(jié)果 — 快速而高效

K-Alpha 具有的性能和的功能,可滿足科研和常規(guī)測量對 XPS 需求。 直觀的操作(由 Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)導(dǎo)航)使得 K-Alpha 適合于多用戶、設(shè)備共享用戶和著重高效操作和大量分析的 XPS 專家。

三個攝像頭方便樣品導(dǎo)航和精確對中。 獨特設(shè)計的光學(xué)成像系統(tǒng)操作預(yù)存有用戶的使用經(jīng)驗,減少了學(xué)習(xí)的彎路,大大提高了測試效率。

K-Alpha 的分析室內(nèi)安裝標準樣品,用于必要的校正。只需按下一鍵,K-Alpha 便可在數(shù)分鐘內(nèi)完成自校正。 確保用戶數(shù)據(jù)非??尚拧?/p>


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