詳細(xì)介紹
此套系統(tǒng)H-CVD-1200S前端配有可加熱到0-1000℃的蒸發(fā)器,輔助固體源蒸發(fā),后端為雙溫
區(qū)硫化爐,溫度控制精確,操作簡便。左端配有法蘭支撐架可將預(yù)熱器和硫化爐分開使用。
右端可配氣氛微調(diào)裝置,可以準(zhǔn)確的反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力,帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓
CVD非常實用,重復(fù)性好;真空機(jī)組裝有真空粉塵過濾器以保護(hù)機(jī)械式真空泵不被硫粉塵損壞。
整套系統(tǒng)可在1200℃以下的工藝溫度穩(wěn)定氣相沉積二硫化鉬等二維化合物材料。
二、設(shè)備組成
HTF-1100蒸發(fā)器,HTF-1200D雙溫區(qū)管式爐,(蒸發(fā)器與高溫反應(yīng)區(qū)采用分體式),
三、主要技術(shù)參數(shù)
蒸發(fā)器 | 型號:HTF-1100 工作溫度:室溫-1000℃ 溫度:1050℃ 升溫速率:30℃/min 推薦升溫速率:10℃/min 控溫方式:智能化30段可編程控制 工作電壓:AC220 V 額定功率:1000W 控溫精度:±1℃ 加熱元件:電阻絲 加熱區(qū)長度(mm):150mm |
雙溫區(qū) | 型號:HTF-1200D 技術(shù)參數(shù): 額定功率(KW):3 額定電壓(V):AC220v 50/60 Hz 溫度(℃):1200(1 hour) 持續(xù)工作溫度(℃):1100 升溫速率(℃/min):≤50 爐管尺寸(mm): 高純石英管Φ50×1500mm 加熱區(qū)長度(mm):150/300mm 恒溫區(qū)長度(mm):100/120mm 控溫方式:模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié),智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報警功能 控溫精度(℃):±1 加熱元件:電阻絲 |
配件 | 配真空粉塵過濾器,DN25手動蝶閥用于控制爐管內(nèi)壓力,防腐型數(shù)顯真空計,三路混氣系統(tǒng)(可選) |
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