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詳細(xì)介紹
LectroPol-5 特性
掃描功能
方法庫
易于使用
的可再生產(chǎn)性
LectroPol-5 專用于對(duì)金相試樣進(jìn)行自動(dòng)化電解拋光和蝕刻。掃描功能（用于方便地測(cè)定參數(shù)）、內(nèi)置的安全功能以及數(shù)據(jù)庫（其中包含適用于各種材料的方法）可縮短拋光時(shí)間和實(shí)現(xiàn)可再生產(chǎn)性。
LectroPol-5 中包含兩個(gè)單元，即控制單元和拋光單元。這兩個(gè)單元可以彼此分離。
自動(dòng)測(cè)定參數(shù)
LectroPol-5 支持掃描功能，有助于確定用于拋光和刻蝕的正確電壓，從而節(jié)省時(shí)間和避免人為錯(cuò)誤。LectroPol-5 可在用戶選擇和設(shè)置電壓時(shí)顯示掃描曲線?，F(xiàn)在，很容易在對(duì)樣品材料進(jìn)行單次掃描后查找正確的設(shè)置，而不用進(jìn)行耗時(shí)的試驗(yàn)操作和錯(cuò)誤參數(shù)測(cè)試。
方法庫
LectroPol-5 附帶適用于各種材料的 10 種拋光/蝕刻方法，支持即時(shí)制備各種材料，無需進(jìn)行任何冗長(zhǎng)和耗時(shí)的試驗(yàn)。也可以以這些方法為基礎(chǔ)，開發(fā)適用于其他材料的方法。LectroPol-5 數(shù)據(jù)庫可存儲(chǔ) 20 種由用戶定義的方法。
縮短拋光時(shí)間，提高可再生產(chǎn)性
與普通機(jī)械式試樣制備流程相比，電解拋光和蝕刻流程具有很短的制備時(shí)間。微處理器控制和數(shù)據(jù)庫功能可確保使用正確的參數(shù)。LectroPol-5 集短制備時(shí)間和高可再生產(chǎn)性于一體，是用于滿足快速質(zhì)量控制要求的理想選擇。
控制單元
拋光
內(nèi)置的安全功能
高級(jí)冷卻控制
在冰點(diǎn)以下進(jìn)行拋光
外部刻蝕
機(jī)型號(hào)
LectroPol-5
LectroPol-5
微觀處理器控制的全自動(dòng)電解拋光和蝕刻設(shè)備。配備控制單元、拋光單元和外部蝕刻單元。包含一套面罩以及兩個(gè)電解液容器。
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