混氣管式PECVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成PECVD設備是借助于光放電等方法產(chǎn)生等離子體,

產(chǎn)品結(jié)構(gòu)：
混氣管式PECVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成
PECVD設備是借助于光放電等方法產(chǎn)生等離子體，光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學反應，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。通過反應氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點，工藝流程簡單。
軟件控制系統(tǒng)：該爐配有通訊接口和軟件，可以直接通過電腦控制爐子的各個參數(shù)，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況，爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出，并能把每個時刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來，隨時可以調(diào)出。
產(chǎn)品用途：
混氣管式PECVD系統(tǒng)可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、裝飾等領(lǐng)域。
產(chǎn)品參數(shù)：

• 產(chǎn)品型號：S-1200PC-HQ
• 氣路控制：浮子流量計/質(zhì)量流量計
• 真空系統(tǒng)：旋片泵/擴散泵/分子泵
• 可選配件：水冷機/數(shù)顯真空計
• 溫度：1200℃(可定制)
• 工作溫度：≤1100℃(可定制)
• 加熱元件：合金加熱絲
• 溫控方式：智能化30段PID微電腦可編程控制
• 溫控保護：具有超溫及斷偶報警功能
• 熱電偶：K型
• 爐膛材質(zhì)：高純氧化鋁多晶纖維
• 加熱速率：0-20℃/分
• 恒溫精度：±1℃
• 均勻性：±5℃
• 爐殼結(jié)構(gòu)：雙層殼體帶風冷系統(tǒng)
• 額定功率：4Kw
• 極限真空：6.0×10-5Pa
• 工作真空：7.6×10-4Pa
• 供電電源：110-480V 50/60Hz
• 售后服務：12個月質(zhì)保，終身保修(易損件除外)