德國(guó)HiTec Zang- Labkit ™ 全自動(dòng)實(shí) 驗(yàn)室反應(yīng)裝置

實(shí)驗(yàn)室全自動(dòng)反應(yīng)設(shè)備（ ALR ）對(duì)現(xiàn)代化產(chǎn)品及工藝的開發(fā)和優(yōu)化至關(guān)重要 , 能更有效地利用實(shí)驗(yàn)室資源，將實(shí)驗(yàn)室人員從日常工作中解脫出來?？蓪⒃偕a(chǎn)提升至可能的佳水平，并且增加安全性和生產(chǎn)質(zhì)量。

傳統(tǒng)的自動(dòng)化實(shí)驗(yàn)室設(shè)備于簡(jiǎn)單的合成，但很難擴(kuò)展到其他應(yīng)用，因此不能夠滿足當(dāng)前研發(fā)的需求。

HiTec Zang 全自動(dòng)實(shí)驗(yàn)室處理裝置可用作單個(gè)的平行的反應(yīng)釜系統(tǒng)。除了標(biāo)準(zhǔn)版 labkit™ 配置，客戶還可以按照自身的具體要求，從 labkit™ 程序延伸來 定制 屬于自己的系統(tǒng)。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

• 開放的軟件系統(tǒng)，易于操作
• 利用 LabManager®/ labvision®/ hibatch™/ hilims™ ，實(shí)現(xiàn)符合 NAMUR 規(guī)范的自動(dòng)化
• 易于擴(kuò)展
• 緊湊空間
• 電動(dòng)降低釜體
• 全天候運(yùn)行，實(shí)驗(yàn)室能力達(dá)到優(yōu)利用率
• 佳的再生產(chǎn)性能
• 質(zhì)量提升
• 從常規(guī)活動(dòng)中解脫
• 減少事故
• GLP 標(biāo)準(zhǔn)文檔
• 可網(wǎng)絡(luò)訪問
• 遠(yuǎn)程維護(hù)

應(yīng)用價(jià)值：

• 產(chǎn)品和過程開發(fā)
• 工藝優(yōu)化
• 與安全相關(guān)的調(diào)查
• 放大測(cè)試
• 反應(yīng)量熱儀等

由單個(gè)部件如 pH 值、加料和真空系統(tǒng)、數(shù)據(jù)記錄、控制單元（如 PLC ）等組成的過程研究實(shí)驗(yàn)室在過去一直被認(rèn)為是好。當(dāng)傳統(tǒng)系統(tǒng)達(dá)到極，由于 LabManager®-System 是符合 NAMUR 規(guī)則的全自動(dòng)系統(tǒng)， labkit™ 彰顯出其巨大優(yōu)勢(shì)。

選配和擴(kuò)展：

液位、濁度、流量、 pH 值、氧化還原等傳感器，過程分析和傳感器，在線分析器，耦合多反應(yīng)器系統(tǒng)，定制系統(tǒng)，這些都可在原來的系統(tǒng)結(jié)構(gòu)上加載。

標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)：

下面描述的標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)， LabKit™-alr1, LabKit™-alr2, LabKit™-rcf, LabKit™-rcb, LabKit™-ed and HiClave 都是完整配置的、它們可以適用于實(shí)驗(yàn)室，生產(chǎn)和小型裝置，可調(diào)整至適應(yīng)空間環(huán)境，也可以在所提供的輔助模塊和組件的幫助下進(jìn)行擴(kuò)充。

LabKit ™ -alr1 standard ALR system (1 litre)

labkit™- alr1 是基本的自動(dòng)化實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，適合于溫度在 -10 到 +130 ℃ 之間的合成或蒸餾。該系統(tǒng)隨時(shí)可以按照客戶的需求進(jìn)行模塊的擴(kuò)充。

設(shè)計(jì)參數(shù)