電子光學•EDI超純水設(shè)備

EDI超純水設(shè)備又稱電去離子設(shè)備，一般用于電子光學行業(yè)生產(chǎn)用水，如半導體、集成電路芯片及封裝用水、電子試劑用水,電子管涂敷配液用水、液晶顯示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光學鏡片清洗用水、各種高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模集成電路等生產(chǎn)用水需求． 

濱潤環(huán)保服務(wù)內(nèi)容：

  包括設(shè)備工藝設(shè)計、系統(tǒng)制造、安裝、現(xiàn)場安裝、系統(tǒng)試裝調(diào)整、設(shè)備保修、及售后服務(wù)等。 

設(shè)計參考標準：

    1）建設(shè)方提供的相關(guān)技術(shù)資料，技術(shù)說明，及基本技術(shù)要求；

    2）國家現(xiàn)行有關(guān)設(shè)計規(guī)范、施工及驗收規(guī)范、質(zhì)量評定標準；

    3）反滲透系統(tǒng)設(shè)計依據(jù)美國；

    4）ZBG98020-90《水處理設(shè)備系列型譜》；

    5）電力裝置的繼電保護和自動裝置設(shè)計規(guī)范(GB50062-1992)；

    6) 工業(yè)與民用電力裝置的接地設(shè)計規(guī)范(GBJ65-1983)；

    7）GB/T11446.1-1997國家電子級超純水標準Ⅰ級≥18MΩ/CM （25℃）95％以上時間；  

濱潤環(huán)保電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備簡述： 

  既將水中的導電介質(zhì)幾乎wan全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水稱為超純水,我國電子工業(yè)部將電子工業(yè)用水劃分為四級用水標準（18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM），科利達環(huán)保采用采用當今zui先jin的雙級反滲透純化水處理技術(shù)＋EDI模塊化設(shè)計,原水通過一、二級反滲透系統(tǒng)去除各種鹽份及雜質(zhì),再經(jīng)過EDI系統(tǒng)對反滲透產(chǎn)水高度凈化，使水質(zhì)提高。此電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，系統(tǒng)工藝*、水質(zhì)穩(wěn)定、自動化程度高、操作簡便、占地少、運行費用低、綠色環(huán)保、維護方便,處理后可生產(chǎn)出水電阻率可達到18.2兆的超純水。

電子光學•EDI超純水設(shè)備