產(chǎn)品介紹：

SU-70采用了"semi-in-lens"物鏡以及肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍技術(shù)，除了具有高分辨率的特點(diǎn)外，它還借助日立的Super E x B技術(shù)可觀察減輕荷電圖像，成分襯度圖像和超低加速電壓圖像。SU-70探針電流為100 nA，可進(jìn)行各種各樣的分析操作（X射線能譜儀，電子背散射衍射系統(tǒng)等）

主要特點(diǎn)：

● 具有超高分辨率 ：1.0nm/15kV，1.6nm/1kV(減速模式)。

● Super E x B技術(shù)用于控制SE/BSE信號(hào)檢測(cè)，實(shí)現(xiàn)消除放電現(xiàn)象及信號(hào)混合。

● 具有“Semi-in-lens"和“out-lens"兩種物鏡模式，可實(shí)現(xiàn)高分辨和磁性樣品兩種觀察模式。

應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 納米材料

2. 金屬

3. 半導(dǎo)體器件

4. EBSP分析

產(chǎn)品圖片

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