生產(chǎn)的系列熱工設備：

L4611Ⅱ-Z/RZQ雙管氧化爐

  【產(chǎn)品簡介】

    氧化爐主要是完成半導體元器件的氧化，使元器件表面在一定的溫度和氣氛的反應下形成一種所需要的氧化膜。同時可作元器件的燒結、退火、釬焊等工藝。

【產(chǎn)品特點】

具有應用廣、安全可靠、控制精度高等特點。

【主要技術指標】

● 溫度：    1250℃

●使用溫度：    300℃--1200℃

●恒溫區(qū)長度：   ≥600mm

●恒溫區(qū)精度:    ±2℃

●單點控溫精度： ±1℃/24h

●升溫功率：   18KW

●保溫功率：   8KW

●氮氣流量：   大 0—20L/min（可調(diào)）   小 0—1L/ min

●氫氣流量：  0—0.2L/min