詳細介紹
自從1814年夫瑯和費發(fā)明光柵刻劃技術,直到近三十年,由于光柵刻劃技術和復制
技術進一步提高,光柵作為分光元件,應用越來越廣。
光柵種類很多,有平面光柵、凹面光柵、階梯光柵等。
平面衍射光柵又有透射式與反射式兩種。
平面衍射光柵是在高精度平面上刻有一系列等寬而又等間隔的刻痕所形成的元件。
凹面衍射光柵刻劃在球面或非球面上一系列等距劃痕的反射式衍射光柵
階梯光柵是由排列的像階梯一樣的一系列厚度和折射率都相同的透明玻璃或石英平行板
光膠形成的。
目前光譜儀器中廣泛采用反射式衍射光柵。
技術進一步提高,光柵作為分光元件,應用越來越廣。
光柵種類很多,有平面光柵、凹面光柵、階梯光柵等。
平面衍射光柵又有透射式與反射式兩種。
平面衍射光柵是在高精度平面上刻有一系列等寬而又等間隔的刻痕所形成的元件。
凹面衍射光柵刻劃在球面或非球面上一系列等距劃痕的反射式衍射光柵
階梯光柵是由排列的像階梯一樣的一系列厚度和折射率都相同的透明玻璃或石英平行板
光膠形成的。
目前光譜儀器中廣泛采用反射式衍射光柵。
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