儀器可用于金相、礦物、晶體、微電子等方面進行觀察與分析研究等，是工廠、高等院校、科研機構(gòu)及電子工業(yè)部門的。采用了反射和透射兩種照明形式，并配有落射偏光裝置。在反射光照明下可以進行明場和偏光觀察，又可在透射光照明下作明場觀察。穩(wěn)定、高品質(zhì)的光學(xué)系統(tǒng)滿足您高要求的成像質(zhì)量，寬闊的機身更體現(xiàn)整體剛性，T形的外觀設(shè)計為您提供了穩(wěn)定的基座。人性化的設(shè)計，簡便的操作將您從繁重的工作壓力中解放出來，從而讓您......

產(chǎn)品特點

技術(shù)規(guī)格				型號
				XJP-401A	XJP-401B
觀察頭	45°單目頭			●
	45°鉸鏈?zhǔn)诫p目頭(55mm-75mm)				●
目鏡	WF10×/18mm			●
半平場 消色差物鏡	放大倍數(shù)	10×	100×
	數(shù)值孔徑	0.25	1.25
	系統(tǒng)	干	油
	工作距離	7.31mm	0.37mm
半平場 消色差物鏡	放大倍數(shù)	40×
	數(shù)值孔徑	0.65
	系統(tǒng)	干
	工作距離	0.66mm
總放大倍數(shù)	100×-1250×
機械筒長	160mm
調(diào)焦	粗、微動同軸調(diào)焦機構(gòu) 微動格值0.002mm調(diào)焦范圍30mm
工作平臺	175mm×135mm
光源	鹵素?zé)?V/20W，AC 220V/110V
載物片	Φ100mm  Φ20mm  Φ42mm
可供附件	目鏡：WF12.5×