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膜厚儀

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更新時(shí)間:2023-10-26 08:56:36瀏覽次數(shù):482

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介】薄膜厚度測(cè)量?jī)x利用分光干涉原理精確測(cè)量光學(xué)或非光學(xué)薄膜厚度,測(cè)量分辨率達(dá)到納米量級(jí)

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介】

薄膜厚度測(cè)量儀利用分光干涉原理精確測(cè)量光學(xué)或非光學(xué)薄膜厚度,測(cè)量分辨率達(dá)到納米量級(jí)。該儀器具有測(cè)量迅速、操作簡(jiǎn)單、測(cè)量結(jié)果穩(wěn)定(高再現(xiàn)性)、用戶(hù)使用界面易于操作等特點(diǎn),是目前市場(chǎng)上性?xún)r(jià)比優(yōu)良的膜厚測(cè)量?jī)x之一,可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)等領(lǐng)域的薄膜厚度測(cè)量。該膜厚儀使用紫外到近紅外區(qū)域光源,測(cè)量范圍1nm到500μm,可以測(cè)量的膜厚材料包括氧化物、氮化物和保護(hù)膜層等常用薄膜材料。

【測(cè)量原理】

白色照明光源垂直照射到待測(cè)薄膜,一部分光經(jīng)過(guò)薄膜上表面的反射,返回到分光儀。另一部分透過(guò)薄膜上表面,經(jīng)過(guò)薄膜與底層之間的界面反射,返回到分光儀(圖1)。這兩束光在分光儀的光電轉(zhuǎn)換器表面重合,形成分光干涉條紋。根據(jù)分光干涉條紋的周期和薄膜厚度的關(guān)系,利用傅立葉變換方法,解析薄膜的厚度(圖2和圖3)。在薄膜厚度解析過(guò)程,利用不同類(lèi)型材料的相應(yīng)參數(shù)修訂解析模型,從而進(jìn)一步提高不同類(lèi)型材料膜厚測(cè)量的準(zhǔn)確性。

產(chǎn)品特點(diǎn)】

l UV/VIS/NIR高分辨率的配置

l 測(cè)量準(zhǔn)確度達(dá)到1nm重復(fù)性為0.1nm

l 可以測(cè)量多層薄膜的厚度

l 測(cè)量范圍*小至1nm*大至500µm

l 提供多種實(shí)驗(yàn)臺(tái)及附件用于復(fù)雜外形材料的測(cè)量

l 對(duì)表面缺陷和粗糙度不敏感

l 龐大的材料數(shù)據(jù)庫(kù)保證各種材料的精確測(cè)量

l 自動(dòng)調(diào)節(jié)照明光源強(qiáng)度

l 高速、高精度測(cè)量,*高測(cè)量頻率達(dá)到300Hz

l 重量輕、體積小,攜帶方便、安裝簡(jiǎn)單,易于安裝在生產(chǎn)線(xiàn)上

l 分光干涉測(cè)量模式,無(wú)任何移動(dòng)部件,可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作

l 非接觸光學(xué)無(wú)損測(cè)量,測(cè)量過(guò)程不會(huì)對(duì)樣品造成破壞

l 提供*佳解析模型,消除不同材料對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響

【使用特點(diǎn)】

快速:每次測(cè)量只需點(diǎn)擊鼠標(biāo),測(cè)量結(jié)果立即呈現(xiàn)在屏幕上,不到一秒鐘。應(yīng)用于在線(xiàn)模式下,可在接受到采樣信號(hào)后,立即測(cè)量

準(zhǔn)確:準(zhǔn)確度1nm重復(fù)性0.1nm,準(zhǔn)確度優(yōu)于1%,有多種材料組成的龐大的材料庫(kù),準(zhǔn)確分析被測(cè)的薄膜。儀器為光學(xué)測(cè)量系統(tǒng),無(wú)任何移動(dòng)部件,不會(huì)由于多次測(cè)量產(chǎn)生回程等機(jī)械運(yùn)動(dòng)誤差,可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作

無(wú)損:非接觸光學(xué)無(wú)損測(cè)量,無(wú)須破壞樣品或?qū)悠纷鎏厥馓幚?/span>

靈活:重量約為3kg,體積250*280*100mm,USB2.0/RS232/LAN多種接口連接方式,攜帶方便、安裝簡(jiǎn)單,可任意放置于實(shí)驗(yàn)室、生產(chǎn)線(xiàn)甚至辦公桌上使用。擁有多種特種配件,可適應(yīng)如非平面測(cè)量、顯微測(cè)量等特殊需求

方便:儀器集成自動(dòng)調(diào)光模塊,根據(jù)系統(tǒng)捕捉到的光譜數(shù)據(jù)自動(dòng)調(diào)整光源的輸出功率,避免光超過(guò)光譜儀的高敏感度線(xiàn)陣探測(cè)器能探測(cè)的極限,不會(huì)出現(xiàn)圖像的飽和

易用:軟件界面直觀(guān)、中文顯示、操作簡(jiǎn)單、用戶(hù)體驗(yàn)出色。無(wú)需專(zhuān)業(yè)知識(shí)以及復(fù)雜的技術(shù)培訓(xùn),預(yù)先設(shè)置好測(cè)試參數(shù)后,每次重復(fù)調(diào)用即可

性?xún)r(jià)比高:相對(duì)于傳統(tǒng)膜厚測(cè)量設(shè)備,儀器擁有非常高的性?xún)r(jià)比


產(chǎn)品型號(hào)

DZFGM-T10

產(chǎn)品編號(hào)

UV-VIS

VIS

UV-VIS-NIR

VIS-NIR

測(cè)量類(lèi)型

薄膜型

常規(guī)型

通用型

厚膜型

波長(zhǎng)范圍

180-850nm

340-850nm

180-1100nm

900-1700nm

測(cè)量厚度

1nm-10µm

10µm-90µm

1µm-300µm

10µm-500µm

使用光源

氘燈和鹵鎢燈

鹵鎢燈或LED

氘燈和鹵鎢燈

鹵鎢燈或LED

分辨率

±0.01%或者0.01nm(兩者取較大值)

準(zhǔn)確度

±1%或者1nm(兩者取較大值)

重復(fù)性

±0.1%或者0.1nm(兩者取較大值)

測(cè)量模式

反射法

入射角

70°或90°

測(cè)試材料

透明或半透明的薄膜材料

測(cè)量層數(shù)

標(biāo)配為1層(多層可選)

測(cè)量時(shí)間

100ms/Point,頻率*大為300HZ

工作距離

10mm(物鏡前端至樣品表面距離)

測(cè)量視野

25µm-1mm(和使用的顯微物鏡有關(guān))

在線(xiàn)測(cè)量

可以,可多通道測(cè)量

解析算法

FFT算法、特征曲線(xiàn)擬合算法,的解析算法增大測(cè)量范圍

數(shù)據(jù)通信接口

USB2.0/USB3.0/RS232/LAN

配置電腦

主流配置便攜式電腦


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