HG-EM激光橢偏儀是針對光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的型多入射角激光橢偏儀?？蓮V泛應用于晶體硅太陽電池、薄膜太陽電池等。

HG-EM激光橢偏儀用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系數(shù)k。

典型納米膜層包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，Al 2O3，HfO2等。應用領(lǐng)域包括半導體、微電子、平板顯示等。HG-EM激光橢偏儀融合多項科技技術(shù)，采用一體化樣品臺技術(shù)，兼容測量單晶和多晶太陽電池樣品，并實現(xiàn)二者的輕松轉(zhuǎn)換。一鍵式多線程操作軟件，使得儀器操作簡單安全。

特點：

★ 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量

★ 原子層量級的靈敏度和準確度

★ 百毫秒量級的快速測量

★ 簡單方便安全的儀器操作

★ 一鍵式操作

技術(shù)指標：