詳細(xì)介紹
一、產(chǎn)品介紹
二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。
二、使用方法
1.使用前將拋光織物用清水濕透,避免摩擦發(fā)熱;
2、啟動(dòng)拋光盤后將拋光劑輕搖后倒置噴出;
3、噴灑拋光劑時(shí),應(yīng)以拋光盤中心為圓心沿半徑方向噴出,3-5秒即可。新織物噴灑時(shí)間應(yīng)相應(yīng)延長(zhǎng),以使織物有更好的磨拋能力;
4、拋光過(guò)程中不斷加入適量的清水即可。
三、產(chǎn)品特點(diǎn)
1、以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。
2、廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。
3、高拋光速率、高純度,有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品
四、產(chǎn)品參數(shù)
二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。如:硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。
二、使用方法
1.使用前將拋光織物用清水濕透,避免摩擦發(fā)熱;
2、啟動(dòng)拋光盤后將拋光劑輕搖后倒置噴出;
3、噴灑拋光劑時(shí),應(yīng)以拋光盤中心為圓心沿半徑方向噴出,3-5秒即可。新織物噴灑時(shí)間應(yīng)相應(yīng)延長(zhǎng),以使織物有更好的磨拋能力;
4、拋光過(guò)程中不斷加入適量的清水即可。
三、產(chǎn)品特點(diǎn)
1、以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。
2、廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。
3、高拋光速率、高純度,有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品
四、產(chǎn)品參數(shù)
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