CVD系統(tǒng)應用：CVD是化學氣相沉積的英文簡寫，本公司生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)是利用管式爐加熱，把構(gòu)成固態(tài)沉積物的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入爐管內(nèi)，在爐管內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學反應形成固態(tài)沉積物的技術。CVD系統(tǒng)分類：CVD技術常常通過反應類型或者壓力來分類，包括低壓CVD(LPCVD)，常壓CVD(APCVD)，亞常壓CVD(SACVD)，超高真空C......

產(chǎn)品名稱：CVD-DZVK系列單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號： CVD-12DZVK 單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-14DZVK 單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-17DZVK 單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-V12DZVK 立式單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-V14DZVK 立式單溫區(qū)CVD系統(tǒng)
      CVD-V17DZVK 立式單溫區(qū)CVD系統(tǒng)




CVD系統(tǒng)應用：

CVD是化學氣相沉積的英文簡寫，本公司生產(chǎn)的CVD系統(tǒng)是利用管式爐加熱，把構(gòu)成固態(tài)沉積物的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入爐管內(nèi)，在爐管內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學反應形成固態(tài)沉積物的技術。

 

CVD系統(tǒng)分類：

CVD技術常常通過反應類型或者壓力來分類，包括低壓CVD(LPCVD)，常壓CVD(APCVD)，亞常壓CVD(SACVD)，超高真空CVD(UHCVD)，等離子體增強CVD(PECVD)，高密度等離子體CVD(HDPCVD)以及快熱CVD(RTCVD)。然后，還有金屬有機物CVD(MOCVD)，根據(jù)金屬源的自特性來保證它的分類，這些金屬的典型狀態(tài)是液態(tài)，在導入容器之前必須先將它氣化。

 

CVD系統(tǒng)組成：

CVD系統(tǒng)=管式爐+真空抽氣系統(tǒng)+多路供氣系統(tǒng)（或者液態(tài)蒸發(fā)系統(tǒng)）

 

單溫區(qū)CVD系統(tǒng)配置選擇：

配置一：管式真空氣氛爐：

SK2-12DZ 管式真空氣氛爐，1200℃，管徑：50—200mm

SK2-14DZ 管式真空氣氛爐，1400℃，管徑：50—100mm

SK2-15DZ 管式真空氣氛爐，1500℃，管徑：50—100mm

SK2-16DZ 管式真空氣氛爐，1600℃，管徑：50—100mm

SK2-17DZ 管式真空氣氛爐，1700℃，管徑：50—100mm

SK2-18DZ 管式真空氣氛爐，1800℃，管徑：50—100mm

VSK2-12DZ 立式管式真空氣氛爐，1200℃，管徑：50—200mm

VSK2-15DZ 立式管式真空氣氛爐，1500℃，管徑：50—100mm

VSK2-17DZ 立式管式真空氣氛爐，1700℃，管徑：50—100mm

 

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配置二：真空抽氣系統(tǒng)：
     可以選配：LVSE-0.1；LVSE-0.1A；HVSE

LVSE-0.1低真空控制系統(tǒng)
產(chǎn)品應用：

該系統(tǒng)為一組低真空機組設備，控制設備真空度小于1Pa一下；配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設備使用

設備組成：設備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計、真空波紋管、支架、真空泵組成

技術參數(shù)：

1、 真空泵：FX-16

2、 真空泵抽氣速度：16m3/h（4L/s）

3、 真空泵極限壓強：（Pa）≤4*10^-2

4、 高真空擋板閥：KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、 真空波紋管：KF25*1000mm

6、 真空計VRD-I:規(guī)管型號ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規(guī)

7、 電源功率：220v/50Hz；0.8kw

8、 出氣進氣口規(guī)格：KF25

9、 連接口：2個KF25接口

 

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LVSE-0.1A可調(diào)低真空控制系統(tǒng)

產(chǎn)品應用：
   該系統(tǒng)為一組低真空恒壓機組設備，控制設備真空壓力恒定在1.0KPa—100.0KPa之間；配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設備使用

設備組成：設備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計、真空波紋管、支架、真空泵、變速器、電動調(diào)節(jié)閥門等組成；

技術參數(shù)：

1、 真空泵：FX-16

2、 真空泵抽氣速度：16m3/h（4L/s）

3、 真空泵極限壓強：（Pa）≤4*10^-2

4、 高真空擋板閥：KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、 真空波紋管：KF25*1000mm

6、 真空計：VRD-I:

7、 規(guī)管型號ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規(guī)

8、 電源功率：220v/50Hz；0.8kw

9、 調(diào)速變頻器：0.75kw

10、      壓強控制范圍：1.0KPa—100KPa

11、      壓強控制精度：±1KPa

12、      出氣進氣口規(guī)格：KF25

13、      連接口：2個KF25接口

               

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HVSE高真空控制系統(tǒng):

產(chǎn)品應用：
   該系統(tǒng)為一組復合分子泵、前級抽氣泵機組設備，控制設備真空度小于8*10^-4Pa；配合真空管式爐、箱式真空氣氛爐等高真空設備使用；廣泛應用于表面分析、半導體設備、等離子體技術、電真空器件的制造及真空技術研究

設備組成：設備由復合分子泵、前級抽氣泵、隔斷放氣閥、前級管路、分子泵電源、高真空檢測系統(tǒng)（復合真空計）、控制電源組成

產(chǎn)品特點：

預抽氣旁路設計，前級抽氣不經(jīng)過分子泵避免預抽氣體中顆粒進入分子泵

技術參數(shù)：

1、 前級真空泵：TRP-24

2、 真空泵抽氣速度：4L/s

3、 分子泵：FJ-620

4、 抽氣速率：600L/s

5、 分子泵極限壓強：6*10^-6Pa

6、 建議啟動壓強：＜100Pa

7、 排氣口法蘭：KF40

8、 進氣口法蘭：DN160LF

9、 波紋管：KF40*1000mm

10、      復合真空計：ZDF-III

11、      真空電磁擋板閥：KF40

12、      真空腔體真空度：＜8*10^-4Pa

13、      工作電壓：220v/50Hz

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配置三：多路供氣系統(tǒng)：

ZDS-X多路質(zhì)子流量計控制供氣系統(tǒng)

系統(tǒng)應用：
  ZDS-X多路質(zhì)子流量計控制供氣系統(tǒng)是實現(xiàn)多種氣體不同流量混合配比的供氣系統(tǒng)

設備組成：多路進氣管路、質(zhì)子流量計、混氣罐、出氣管路組成

產(chǎn)品特點：

1、 幾路進氣客戶自由定制，標準接口，方便連接

2、 液晶觸摸屏控制輸入每路氣體流量，實時查看各路氣體流量曲線

3、 每條氣路均設置高壓截止閥，方便切斷氣路

技術參數(shù)：

1、 氣體通路：X條客戶自由定制

2、 氣體類型：客戶自由選擇

3、 流量計量程：5—500SCCM；1—10SLM自由選擇

4、 工作電壓：220v/50Hz

5、 工作壓差：0.1-0.5MPa

6、 壓力：3MPa

7、 準確度：±1.0%F.S

8、 質(zhì)子流量計相應時間：＜1S

9、 測量范圍：0.1-0.15MPa

10、      混氣罐：304不銹鋼

11、      進出氣接口：直徑6mm不銹鋼卡套接口

12、      管道：內(nèi)部管道采用直徑6mm不銹鋼管；外部管采用6mm聚四氟管

13、      控制系統(tǒng)：PLC控制系統(tǒng)，液晶觸摸屏輸入，每路氣路獨立控制

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FDS-X多路浮子流量計控制供氣系統(tǒng)

系統(tǒng)應用：
   FDS-X多路浮子流量計控制供氣系統(tǒng)是實現(xiàn)多種氣體不同流量混合配比的供氣系統(tǒng)

設備組成：多路進氣管路、浮子流量計、混氣罐、出氣管路組成

產(chǎn)品特點：

1、 幾路進氣客戶自由定制，標準接口，方便連接

2、 手動調(diào)節(jié)浮子流量計，方便快接

3、 每條氣路均設置高壓截止閥，方便切斷氣路

技術參數(shù)：

1、 氣體通路：X條客戶自由定制

2、 氣體類型：客戶自由選擇

3、 流量計量程：10-100ml/min；25-250ml/min；50-500ml/min自由選擇

4、 壓力表：-0.1MPa---0.15MPa，0.01MPa/格

5、 混氣罐：304不銹鋼

6、 進出氣接口：直徑6mm

7、 管道：內(nèi)部管道采用直徑6mm不銹鋼管