日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC

平行光曝光系統(tǒng)

設計緊湊的平行光曝光系統(tǒng)。

這種準直鏡式平行光曝光系統(tǒng)使用一個超高壓汞燈作為點光源。 主要部件由光源、吸式曝光臺和面罩單元組成，曝光方式可以是真空接觸（硬接觸）曝光方式。 也可根據(jù)要求提供接近系統(tǒng)。

對于曝光控制，安裝了一個集成的測光表，以方便設置正確的曝光量。

基本信息

日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC

基本規(guī)格。

工件尺寸：150毫米×150毫米，厚度約0.1 - 1.0毫米

光學性能：超高壓汞燈1KW（風冷），波長約300-470納米（主波長365、405、436納米）。

紫外線照度約為40 mw/cm^2的初始值（@365 nm），照度分布為90% min。

射線平行度：準直半角≤1.5°，傾角≤1.0°。

曝光快門：用空氣驅(qū)動的快門打開/關閉

曝光控制：取決于集成測光表（控制波長為365納米），20通道記憶

面罩（基本）： □8英寸玻璃面罩，3.0毫米或5.0毫米厚

曝光臺：吸氣臺，前/后可移動，內(nèi)置真空泵

上層框架類型：專用玻璃罩框架或麥拉框架

公用設施：電源3相200V 50/60 Hz，斷路器開關30A，10.5KVA

　　　　　　　壓力空氣約0.5 Mpa

　　　　　　　廢氣：約8 m^3/min

外部尺寸：(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm