真空鉬帶加熱爐分為立式或臥式、升降式結(jié)構(gòu)，真空鉬帶加熱爐在各種高溫工藝中發(fā)揮著重要作用，其多功能性和高效性使其成為材料熱處理和處理的重要工具。

真空鉬帶加熱爐適用于金屬材料在主真空，高溫度條件下進行退火，釬焊，燒結(jié)，除氣處理，同時也適用 于石英材料廠的脫羥處理。

設(shè)備特點：

結(jié)構(gòu)多樣性：真空鉬帶加熱爐可以采用立式、臥式或升降式結(jié)構(gòu)，以滿足不同工藝需求。

應(yīng)用廣泛：適用于金屬材料的退火、釬焊、燒結(jié)、除氣處理等高溫工藝，也可用于石英材料的脫羥處理。

多層保護：設(shè)備主要由爐殼、加熱元件、保溫反射屏、真空系統(tǒng)和電控系統(tǒng)組成。

高效冷卻：爐殼采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，內(nèi)層拋光的不銹鋼，外層碳鋼，中間通水冷卻，確保設(shè)備穩(wěn)定工作。

均勻加熱：采用高溫鉬絲或高溫鉬帶作為加熱元件，并合理布局，以提高爐溫均勻性。

保溫反射屏：由高溫鉬、鉬及不銹鋼組成，具有保溫和減少放氣的作用。

真空系統(tǒng)：真空系統(tǒng)由油擴散泵和機械泵組成，配置高真空擋板閥，配合數(shù)顯真空計和PLC實現(xiàn)高低真空自動控制。

安全電控系統(tǒng)：電控系統(tǒng)采用低電壓大電流輸入，具備斷水、超溫、過流等聲光報警及自動保護功能。智能數(shù)顯程序控制儀完成升溫/降溫過程自動控制。

真空度：

可選擇分子泵配置，可實現(xiàn)真空度達到10-4Pa，確保設(shè)備在高溫和真空條件下的穩(wěn)定運行。

型號規(guī)格參數(shù)：