1200℃立式氣氛管式爐采用立式結(jié)構(gòu)設(shè)計，立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢，爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，加熱爐膛有左右兩部分組成，其中右部爐膛可整體向右翻轉(zhuǎn)110°，方便取放、觀察實(shí)驗(yàn)物料，能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對樣品快速升降溫，四面加熱，溫場更均勻?？?/span>密封法蘭采用雙環(huán)密封技術(shù)，有效的提高了爐管兩端的氣密性，以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體。氣路具有進(jìn)出氣微量可調(diào)功能。該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實(shí)驗(yàn)需要！

應(yīng)用范圍：

1200℃立式氣氛管式爐主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。

1200℃立式氣氛管式爐技術(shù)參數(shù)：