紫外光刻系統(tǒng)

       PhableR 100 紫外光刻機是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術(shù)，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

產(chǎn)品特點：

· 可達到步進光刻機的高分辨率

· 操作簡單性與紫外曝光機相同

· 光子圖形化的低成本解決方案

產(chǎn)品優(yōu)勢：

· 高分辨率（低于300nm pitch）

· 全場曝光

· 非接觸式：防止掩膜受損及被污染

· 焦深幾乎沒有限制

· 表面不平的襯底也適用（如外延片）

· 均勻性高

· 具有套刻對準(zhǔn)能力

· 商業(yè)化的可獲得的光刻膠和材料都適用

· 使用傳統(tǒng)的掩膜板（玻璃上鍍鉻）

· 頻率倍增

應(yīng)用：

· LED光萃取層

· 藍寶石襯底圖形化（PSS）

· 磁性納米結(jié)構(gòu)

· 減反射圖形

· 太陽能光伏

· 電通訊光柵

· 光譜儀光柵

· 等離子圖案

· 編碼器標(biāo)尺

· 濾色鏡

· 生物傳感器

Phable紫外光刻機應(yīng)用實例：

Phable紫外光刻機在圖形化藍寶石襯底（PSS）中的應(yīng)用

名詞解釋：圖形化藍寶石襯底Patterned Sapphire Substrates (PSS)

Eulitha公司的PHABLE紫外光刻機是在廣泛用于LED生產(chǎn)中的藍寶石襯底上曝光圖形的理解工具。圖形化藍寶石襯底有利于高質(zhì)量的半導(dǎo)體材料層的 生長，從而得到高性能的LED器件。需要的結(jié)構(gòu)是典型的柱或孔的陣列，一般呈六邊形排布，周期為1－3μm（PSS），當(dāng)制作納米級圖形化藍寶石襯底 （NPSS——Nano-Patterned Sapphire Substrates）時，周期一般是幾百納米，更精細的結(jié)構(gòu)帶來更大的出光效率。大多數(shù)藍寶石樣片表面都不平整，使用傳統(tǒng)光刻方法，以可接受的成本，很難獲得很好的曝光圖形，而PHABLE紫外光刻機在藍寶石襯底上能曝光出這些高分辨的結(jié)構(gòu)，且具有很好的均勻性和重復(fù)性。PHABLE紫外光刻機可在四英寸硅片上一次曝光出均勻圖形，生產(chǎn)效率非常高。同時，我們可以對涂得很厚的光刻膠進行曝光，以利于下一步輕松地進行藍寶石襯底的刻蝕。

指標(biāo)：