原位高溫高壓光電催化反應(yīng)裝置（EC-MSHP）是一款適用于在特殊環(huán)境下進(jìn)行電化學(xué)反應(yīng)測試的原位裝置；能夠提供真實(shí)的水熱環(huán)境，高壓環(huán)境，攪拌環(huán)境以及光電催化環(huán)境。攪拌速率以及加熱溫度可控可調(diào)節(jié)，可通過計(jì)算機(jī)及軟件界面實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)與控制。廣泛應(yīng)用于化學(xué)、材料及相關(guān)領(lǐng)域，特別適合于電化學(xué)及反應(yīng)動(dòng)力學(xué)研究。本裝置屬研究型，可依據(jù)需要進(jìn)行功能擴(kuò)展。

主要特點(diǎn)：

1. 高溫高壓光電催化反應(yīng)裝置適用于液體環(huán)境的高溫光催化電化學(xué)測試，提供真實(shí)原位攪拌環(huán)境，攪拌速率可適當(dāng)調(diào)節(jié)；

2. 裝置整體外形尺寸：約Φ110*214mm；池體容積約：30mL;

3. 電化學(xué)池類型：配備三電極體系（工作電極、參比電極、對(duì)電極），池體上蓋有氣路；

4. 電化學(xué)池主體材質(zhì)：PEEK；

5. 光學(xué)窗口：1 個(gè)光學(xué)窗口，窗口分內(nèi)外兩層；內(nèi)層石英窗口Φ20*1mm 設(shè)置在釜體上，通光直徑15mm；外層石英窗口Φ20*4mm（承壓）設(shè)置在釜體套上，通光直徑15mm；

6. 溫度范圍：RT~100℃；溫度控制精度：±1℃；

7. 攪拌支持：電化學(xué)池腔體內(nèi)可分別放置磁子，配合底部磁力攪拌部件，實(shí)現(xiàn)攪拌，攪拌速率0-1200rpm 可調(diào)；

8. 耐壓：耐壓<=5MPa;

9. 計(jì)算機(jī)控制及顯示：USB/網(wǎng)絡(luò)通訊接口；界面操作，控制攪拌速度。

10. 該裝置由高溫高壓光電催化反應(yīng)裝置由高壓光電催化反應(yīng)釜，攪拌加熱底座，加熱控制調(diào)節(jié)箱，壓力控制箱，冷卻水循環(huán)機(jī)及計(jì)算機(jī)軟件控制系統(tǒng)等組成。