原位高低溫衍射光催化反應(yīng)裝置（HLT-PCXRD-N）是一款根據(jù)用戶需求定制的、適用于光催化體系中的原位衍射測試裝置，特別適合于低溫環(huán)境下二維材料、薄膜材料等的物相結(jié)構(gòu)變化研究。該裝置主要包含有主體原位池、溫控系統(tǒng)等多個(gè)部件及相關(guān)配件。采用液氮制冷對低溫樣品進(jìn)行制冷，通過熱傳導(dǎo)的制冷方式，確保樣品處于恒溫點(diǎn)，溫度范圍為-150℃～350℃。該原位裝置的窗口為帶有藍(lán)寶石片的金屬鈹桶，能同時(shí)滿足氙燈垂直照射樣品和X射線的低角度入射功能。該原位裝置十分適用于不同材料在低溫、高壓情況下的物相結(jié)構(gòu)研究，是材料科學(xué)領(lǐng)域、能源化學(xué)領(lǐng)域等眾多研究領(lǐng)域的有力輔助手段之一。

主要特點(diǎn)：

1. 該原位衍射裝置適用于低溫環(huán)境下二維材料、薄膜材料等的物相結(jié)構(gòu)變化研究；

2. 該原位裝置主要包括主體原位池（內(nèi)置制冷組件）、液氮制冷系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)等多個(gè)部件及相關(guān)配件；

3. X射線探測角度范圍：5<2θ<160°；

4. 樣品尺寸：<=φ10mm，可根據(jù)客戶需求進(jìn)行調(diào)整；

5. 該裝置本身帶有電學(xué)測試的電極接線，可實(shí)現(xiàn)樣品低溫環(huán)境下的電學(xué)測試；

6. 該裝置采用液氮制冷對樣品進(jìn)行制冷，采用熱傳導(dǎo)的方式對樣品進(jìn)行加熱，保證樣品處的溫度均勻；

7. 溫度控制范圍：-150℃～350℃；控制精度：±1℃，采用程序控制；

8. 樣品臺采用銅加工而成，溫度探測器為Pt100，置于冷臺邊；

9. 裝置采用高純鈹筒窗作為X 射線衍射光窗，頂部光照窗口采用藍(lán)寶石窗口，保證能夠承受不高于1 個(gè)大氣壓的氣壓條件和低真空環(huán)境。