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原位高溫XAFS反應釜

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更新時間:2023-08-18 12:43:41瀏覽次數:251

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產品簡介

原位高溫XAFS反應釜

詳細介紹

簡 介

原位高溫XAFS反應釜(DMHK-TXAS)是一款高溫原位X射線吸收譜測試反應釜,該反應釜是基于同步輻射X射線吸收譜方法的原位在線檢測裝置,能夠實現在高溫高壓的即時反應條件下,不需要破壞其本征樣品環(huán)境,即可匹配同步輻射X射線吸收譜學方法對產物進行原位在線的檢測,直接獲取納米晶顆粒在不同生長環(huán)節(jié)下的幾何和電子結構。

主要特點:

1. 該裝置為模擬高壓水熱反應釜的工作原理,能夠實現反應釜內膽化學反應過程中的原位透射X射線吸收光譜在線檢測功能;

2. 該裝置采用自加熱模式進行加熱,內膽溫度設計為230℃,常用溫度為200℃,溫度控制精度為±1℃;

3. 采用溫度控制器對其進行溫度控制,溫控設備配備程序控制,可連接微型計算機使用;

4. 內部壓力承載范圍為:0-40bar;

5. 光窗材質為高分子及高純Be材質

6. 裝置內部容積約為8ml,整體尺寸為:φ80*40mm(厚度方面若太厚,還可以適當減小一點)。

 

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