NX-2600整片基板帶對準(zhǔn)可多層次納米壓印加高分辨率光刻系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實(shí)時(shí)實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性能穩(wěn)定。具備全部壓印模式：熱固化、紫外固化和壓印。

基于獨(dú)特設(shè)計(jì)的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)（ACP），不論模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu)，NX-2600均可對其校正補(bǔ)償從而獲得的壓印均勻性， ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏移，有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設(shè)計(jì)可獲得快速的熱壓印周期，最終得到快速的工藝循環(huán)

主要特點(diǎn)：

所有形式的納米壓印

熱塑化

紫外固化

熱壓與紫外壓印同時(shí)進(jìn)行

熱固化 

氣墊軟壓技術(shù)(ACP)

Nanonex技術(shù)

的整片基板納米壓印均勻性

高通量 

低于10nm分辨率 

亞1微米正面對準(zhǔn)精度 

背面對準(zhǔn)可選項(xiàng)

 快速工藝循環(huán)時(shí)間（小于60秒） 

靈活性

4″, 6″, or 8″壓印面積可選

各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可壓印

方便用戶操作 

基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn)的自動化壓印操作 

Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實(shí)時(shí)實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性能穩(wěn)定 

全自動納米壓印

系統(tǒng)參數(shù)：

熱塑壓印模塊

溫度范圍0~250℃ 

加熱速度>300℃/分鐘

制冷速度>150℃/分鐘

壓力范圍0 ~ 3.8MPa(500 psi)

紫外固化模塊(NX-2000)

200W窄帶紫外光源

365納米或395納米波長可選

全自動化控制

對準(zhǔn)模塊

X, Y, Z, Theta平臺

分場光學(xué)和CCD相機(jī)

基板裝載

標(biāo)配納米壓印系統(tǒng)可裝載4″基板

6″和8″基板可選

各種尺寸及不規(guī)則形狀模板及基板均可壓印

ACP技術(shù)可限度保護(hù)基板和模板，特別對于象磷化銦（InP）等極易碎模板和基板給予限度保護(hù)。

光刻

標(biāo)配5"模板，標(biāo)配4"直徑基板

其他尺寸可以提供

500瓦紫外水銀燈光源

其他參數(shù)：

配有微軟Windows的電腦控制系統(tǒng) 

用戶友好的控制軟件 

程序化控制壓印溫度、壓力和時(shí)間 

真空和壓縮空氣操作由電腦控制 

手動裝載/拆卸基板 

自動化壓印操作 

設(shè)備占地面積:31 × 87 英寸

(780 mm × 2210 mm) 

應(yīng)用領(lǐng)域:

納米電子和光電子、顯示器、數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)、材料、生物科技、納米流道等。