1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。 2、產(chǎn)品特點/用途： ?設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用；占地面積小，價格便宜，性能穩(wěn)定，使用維護成本低； ?可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等； ?鍍膜示例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等； ?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。

名稱：高真空磁控濺射鍍膜機
品牌：泰科諾
型號：JCP500
產(chǎn)地：北京

1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進行薄膜新材料的科研與小批量制備。

2、產(chǎn)品特點/用途：

?設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用；占地面積小，價格便宜，性能穩(wěn)定，使用維護成本低；

?可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等；

?鍍膜示例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等；

?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。

型號	JCP500
真空腔室結(jié)構(gòu)	立式前開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)
真空腔室尺寸	Φ500×H420mm
加熱溫度	室溫～500℃
濺射方式	上下濺射可選
旋轉(zhuǎn)基片臺	Φ150mm
膜厚不均勻性	Φ100mm范圍內(nèi)≤±5.0%
濺射靶/蒸發(fā)電極	Φ3英寸磁控靶3支，兼容DC/MF/RF濺射
工藝氣體	2~3路氣體流量控制
控制方式	PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統(tǒng)
占地面積	(主機）L1900×W800×H1900mm
總功率	≥10KW