詳細介紹
本裝置包含燒結系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng),供氣系統(tǒng)于一體,應用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復合碳材料的滲透等;也可用于氣相傳輸法材料合成及制備納米材料,如 ZnO、CdS 等;溶液法制備薄膜,如制備龐磁電阻薄膜,制備高溫超導薄膜等;固相反應法材料合成;在大氣、真空或氣氛保護下進行各種材料的熱處理。
設備規(guī)格及配置
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杭州大華儀器制造有限公司
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| 參考價 | 面議 |
更新時間:2023-09-03 12:00:00瀏覽次數(shù):308
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本裝置包含燒結系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng),供氣系統(tǒng)于一體,應用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米管生長、石墨烯生長以及復合碳材料的滲透等;也可用于氣相傳輸法材料合成及制備納米材料,如 ZnO、CdS 等;溶液法制備薄膜,如制備龐磁電阻薄膜,制備高溫超導薄膜等;固相反應法材料合成;在大氣、真空或氣氛保護下進行各種材料的熱處理。
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