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X熒光光譜分析儀 XAD

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更新時間:2025-08-05 08:22:19瀏覽次數(shù):134

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品類型:能量色散X熒光光譜分析儀產(chǎn)品名稱:光譜分析儀產(chǎn)品型號:XAD產(chǎn)品優(yōu)勢:XAD是一款全元素上照式熒光光譜儀,可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚,可選配自動平臺實現(xiàn)XYZ軸編程位移,實現(xiàn)無人值守多點測量,測量軟件置入的EFP算法及解譜技術(shù),解決了諸多業(yè)界難題

詳細介紹

產(chǎn)品類型:能量色散X熒光光譜分析儀

產(chǎn)品名稱:光譜分析儀

產(chǎn)品型號:XAD


產(chǎn)品優(yōu)勢:

XAD是一款全元素上照式熒光光譜儀,可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚,可選配自動平臺實現(xiàn)XYZ軸編程位移,實現(xiàn)無人值守多點測量,測量軟件置入的EFP算法及解譜技術(shù),解決了諸多業(yè)界難題。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

 

1)搭載微聚焦加強型X射線發(fā)生器和的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng),最小測量面積達0.03mm2

2)擁有無損變焦檢測技術(shù),手動變焦功能,可對各種異形凹槽件進行無損檢測,凹槽深度范圍0-90mm

3)核心EFP算法,可對多層多元素,包括同種元素在不同層都可快、準、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析(釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB,精準檢測層Ni和第三層Ni的厚度)

4)配備高精密微型移動滑臺,可實現(xiàn)多點位、多樣品的精準位移和同時檢測

5)裝配Si-Pin半導(dǎo)體探測器,即便測量0.03mm2以下的樣品,幾秒鐘也可達到穩(wěn)定性

6)涂鍍層分析范圍:鋰Li(3)- 鈾U(92)

7)成分分析范圍:鋁Al(13)- 鈾U(92)

8)人性化封閉軟件,自動判斷故障提示校正及操作步驟,避免誤操作

9)四準直器可選,最小測量面積可達0.03mm2

10)配有微光聚集技術(shù),最近測距光斑擴散度小于10%

 

儀器配置:

1. 微聚焦加強型X射線管:高穩(wěn)定性X射線發(fā)生器

        —鈹窗口,油絕緣,氣冷式,輻射安全電子管屏蔽

        —50kV,1mA,高壓和管流設(shè)定為應(yīng)用程序提供更好的性能

        —符合DIN ISO 3497、DIN 50987和ASTM B 568射線標準,如有特殊要求,也可協(xié)商定制

2. 接收器:Si-Pin半導(dǎo)體探測器(也可選配大窗口SDD探測器)

        —窗口面積≥25mm2

3. 光路轉(zhuǎn)換器

        —φ0.3mm(標配),φ0.2mm,φ0.5mm和□0.1*0.3mm多準直器可選

4. 定制專享高敏感鏡頭

        —1/2.7"彩冊CCD高敏感可變焦鏡頭,全局快門,有效像素:1280*960,光學(xué)18-46X,數(shù)字放大20-200倍  

5. 恒壓恒流快門式光閘

    —擁有高壓電源緊急自鎖功能,帶給您更安全的防護

6. 移動平臺

        —手動高精密XY移動滑臺,移動范圍100mm*150mm,精度0.01mm,可承重15KG

7. 全新一代高壓電源

—性能穩(wěn)定可靠,高達50W的功率實現(xiàn)更高的測試效率

8. 對流通風(fēng)式過濾風(fēng)冷

—的散熱系統(tǒng)配備,儀器即便全天候開啟,都可保持恒溫恒效

9. 隨附標準片

        —免費提供十二元素片、五選二標準片( Ni/Cu 2um、Ni/Fe 5um、Au/XX 0.05um、Ag/XX 0.5um、Cr/XX 0.15um)、其他規(guī)格(選配)

10. 其他配置

        —電腦一套、打印機、附件箱、電鍍液測量杯(選配)


技術(shù)參數(shù):

1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)

2. 成分檢出限:5ppm

3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

4. 涂鍍層檢出限:0.005μm

5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm(最小測量面積0.03mm2)

6. 對焦距離:0-90mm

7. 樣品腔尺寸:530mm*570mm*145mm

8. 儀器尺寸:550mm*760mm*635mm

9. 儀器重量:100KG

10. XY軸工作臺移動范圍:100mm*150mm

11. XY軸工作臺承重:15KG

12. 多元迭代EFP核心算法(號:2017SR567637)

專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。


                         

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