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瑞士萬通 掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM)

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更新時間:2023-04-01 09:53:49瀏覽次數(shù):500

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產(chǎn)品簡介

主要功能及特點Bsae-SECM是一套致力于研究的掃描電化學(xué)顯微鏡,技術(shù)源于德國波鴻魯爾大學(xué)Schuhmann教授課題組

詳細(xì)介紹

主要功能及特點

       Bsae-SECM 是一套致力于研究的掃描電化學(xué)顯微鏡,技術(shù)源于德國波鴻魯爾大學(xué)Schuhmann 教授課題組。Base-SECM 標(biāo)準(zhǔn)配置的功能已然十分*,能滿足絕大多數(shù)研究的需要。在這基礎(chǔ)上,用戶還可以購置不同的功能模塊,以滿足特殊的研究需要。


主要技術(shù)參數(shù)

定位系統(tǒng):XYZ 步進(jìn)控制系統(tǒng)

動態(tài)范圍:25x25x25 mm(其他范圍可選)

線掃速率:10mm/s

分辨率:20nm

掃描模式

Feedback Mode 反饋模式

GC Mode 產(chǎn)生收集模式

Direct Mode 直接模式

AC-SECM 微區(qū)阻抗模式

4D 模式

Shearforce剪切力模式

探針掃描:

2D 掃描

3D 掃描

等間距掃描

快速等間距掃描

預(yù)設(shè)掃描

自編輯電化學(xué)程序掃描

應(yīng)用領(lǐng)域

電化學(xué)動力學(xué)研究

吸附/脫附現(xiàn)象和溶解過程的研究

液/液界面,液/氣界面,液/固界面以及重要的生物過程

局部腐蝕過程觀測

催化劑活性評價

傳感器表面活性成像

局部阻抗分析

生物膜酶活性研究

微納米尺度的金屬顆粒沉積(恒電流或無電沉積)

在水或有機(jī)溶液中材料表面上導(dǎo)電聚合物局部沉積

電化學(xué)刻蝕

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