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上海依肯機械設備有限公司
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納米水性涂料高速剪切攪拌研磨分散機

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號CMD2000

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

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更新時間:2017-03-21 13:44:04瀏覽次數(shù):744次

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由于納米微粒的小尺寸效應、表面效應、量子尺寸效應和宏觀量子隧道效應等使得它們在磁、光、電、敏感等方面呈現(xiàn)常規(guī)材料不具備的特性。因此納米微粒在磁性材料、電子材料、光學材料、高致密度材料的燒結(jié)、催化、傳感、陶瓷增韌等方面有廣闊的應用前景。 一應般來說,納米涂料必須滿足兩個條件:首先,涂料中至少有一相的粒徑尺寸在1—100nm的粒徑范圍;其次,納米相的存在使涂料的性能要有明顯的提高或具有新的功能。

     
傳統(tǒng)高速分散機的主要作用是將涂料研磨漿進行預混合。現(xiàn)代化涂料原材料中的顏料、填料都是超細化易分散的,加上潤濕分散機的運用,許多涂料不必進行研磨,僅僅使用高速分散機就可以達到規(guī)定的細度。但是對于納米涂料的生產(chǎn),傳統(tǒng)的高速分散機是無法到達要求的,細度的要求無法滿足。
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納米水性涂料的難點是:粉體分散到液體里面,容易形成二級團聚體,會將原本納米級的粒徑變成大的團聚體,從而難以分散細化,影響zui終產(chǎn)品性能。

上海依肯應對這種現(xiàn)狀,研發(fā)并生產(chǎn)出型的研磨+分散設備,研磨和分散一體化的設備,先研磨將二級團聚體打開,再分散,從而還原原始的納米粒徑。

結(jié)合南昌某客戶的案例,使用上海依肯CMSD2000系列研磨分散機設備對納米涂料進行處理,研磨分散3遍,即可還原納米級粒徑,客戶很是驚喜和認可。

                   

CMD2000系列研磨分散設備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。


*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。


第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

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