混懸液研磨分散機是是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

混懸液如

磺胺嘧啶混懸液      復方磺胺甲噁唑口服混懸液   磺胺二甲嘧啶混懸  液硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液

 棕櫚氯霉素混懸液   布洛芬口服混懸液   復方磺胺甲噁唑口服?... 磺胺二甲嘧啶混懸液   硫酸鋇(Ⅰ型)混懸液

布洛芬混懸液   硫糖鋁混懸液   

棕櫚氯霉素混懸液   鋁鎂混懸液

頭孢克洛混懸液    蒙脫石混懸液

鋁鎂加混懸液   右美沙芬緩釋混懸液

苯酰甲硝唑混懸液   依托紅霉素混懸液

硫酸鋇混懸液   布洛偽麻混懸液    對乙酰氨基酚混懸液

混懸液的要求混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題?；鞈乙褐兴幬镂⒘７稚⒍却?/span>

，微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面，是混懸微粒具有較高的表面自由能，混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。

若要制得沉降緩慢的混懸液，應(yīng)減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。

影響混懸液大小的粉碎效果 

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素： 

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在CM2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出CMSD2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。

混懸液研磨分散機的型號

研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測定數(shù)據(jù)。

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