我公司電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

 

電子半導(dǎo)體行業(yè)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
     我公司電子級(jí)超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

電子工業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求：
     微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

應(yīng)用場(chǎng)合：
     ☆半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
     ☆超純材料和超純化學(xué)試劑；
     ☆實(shí)驗(yàn)室和中試車間；
     ☆汽車、家電表面拋光處理；
     ☆光電產(chǎn)品；
     ☆其他高科技精微產(chǎn)品；

典型電子級(jí)超純水制備工藝：   
     ☆預(yù)處理----反滲透----水箱----陽(yáng)床----陰床----混合床----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----精制混床----微孔膜過濾器----用水對(duì)象
     ☆預(yù)處理----一級(jí)反滲透----pH調(diào)節(jié)裝置----中間水箱----二級(jí)反滲透----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過濾器----用水對(duì)象
     ☆預(yù)處理----二級(jí)反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過濾器----用水對(duì)象          新工藝
     ☆預(yù)處理----二級(jí)反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----拋光混床----TOC分解器----微孔膜過濾器----用水對(duì)象

工藝流程：