詳細(xì)介紹
EpiEL測試儀-光致發(fā)光電致發(fā)光測試儀-Maxmile 產(chǎn)品描述:
EpiEL測試儀-光致發(fā)光電致發(fā)光測試儀-Maxmile 無需任何高成本和耗時的設(shè)備制造,即可使未加工發(fā)光材料作為成品設(shè)備(如LED)通過電致發(fā)光測量,無損檢測且測量快速。憑借這種的性能,MaxMile EpiEL技術(shù)為光電(特別是固態(tài)照明)行業(yè)提供了的電致發(fā)光解決方案,帶來了新的性能和更高的效率。它結(jié)合了優(yōu)異的性能、多功能性和可靠性,易于學(xué)習(xí)操作。
以光電方面的基本應(yīng)用研究&發(fā)展為前提,Maxmile電致發(fā)光映射系統(tǒng)開發(fā)了以下功能:
- 晶片設(shè)備性能測量;
- 無損快速的電致發(fā)光技術(shù)和晶片級電致發(fā)光映射技術(shù);
- 材料動向的快速反饋;
- 無晶片材料和系統(tǒng)的開發(fā);
在工業(yè)產(chǎn)品的開發(fā),工藝監(jiān)測和質(zhì)量監(jiān)控方面,電致發(fā)光映射系統(tǒng)在質(zhì)量監(jiān)控和成本效益中有優(yōu)異的權(quán)衡:
- 為方法的改進(jìn)、進(jìn)度和系統(tǒng)優(yōu)化提供及時響應(yīng);
- 為材料增長提供設(shè)備質(zhì)量控制;
- 在晶片評估/篩選到設(shè)備排序之間,啟用高容量特性化;
廣泛應(yīng)用于不同材料:電致發(fā)光映射系統(tǒng)設(shè)計可以用于任何具備電致發(fā)光功能的半導(dǎo)體基發(fā)光外延材料,無論是LD或LED的材料結(jié)構(gòu)。
主要特征:
- 晶片電致發(fā)光測試
- 快速EL和EL映射
- 無損檢測、快速測量
- 圖形系統(tǒng)化控制
- 直觀的系統(tǒng)軟件
- 一鍵式操作
- 無需樣品制備,高生產(chǎn)率
- 探針自動初始化
- 自動化wafer-size識別
- 大屏幕顯示,易使用且更高效
- 高度定制的系統(tǒng)配置
- 多功能探針
- 可根據(jù)不同的測試需求選擇探針
- 自動生成報告
- 靈活地顯示測試結(jié)果
- 廣泛的數(shù)據(jù)分析套裝軟件
EpiEL測試儀-光致發(fā)光電致發(fā)光測試儀-Maxmile 技術(shù)參數(shù):
- 晶片尺寸: 2,3,4英寸晶片(定制可達(dá)12英寸)。
- 機(jī)臺運(yùn)動控制:精度< 6微米,步分辨率< 0.5微米。
- 光檢測:傳輸模式標(biāo)準(zhǔn);反射模式將是可選的(與不透明襯底的樣品) 。
- 探針類型:I型和II型。
- 探針臺:實(shí)驗(yàn)室或生產(chǎn)版本。
- 掃描速度:根據(jù)應(yīng)用程序,每100采樣點(diǎn)約4-20分鐘
- 采樣點(diǎn):最終用戶采樣點(diǎn)數(shù)量和每個點(diǎn)的光/電測量。
- 測試模式:快速發(fā)光或發(fā)光映射模式。
- 映射類型:共發(fā)射強(qiáng)度,外部量子效率,峰值波長或強(qiáng)度,或給定驅(qū)動電流或電壓的半高寬,給定的驅(qū)動電流或特定波長的發(fā)光強(qiáng)度,等等。其他LED參數(shù)映射值可以自定義。
- 曲線類型:在特定電流/電壓的發(fā)光光譜來看,當(dāng)前或放射性強(qiáng)度與電壓( LIV ),輸出特點(diǎn):強(qiáng)度與驅(qū)動電流,半峰全寬或峰波長與驅(qū)動等。
- 映射顏色編碼:彩虹色,漸變色,二元色,溫度,灰色或其它由最終用戶的顏色類型。
- 波長檢測: UV / VIS或VIS / IR ,或自定義。
- 電流測量:標(biāo)準(zhǔn)> 10E -6A ,可選項(xiàng)> 10E -12A。
- 選項(xiàng):PL特性( EL -300 ),增強(qiáng)的電氣特性( EL-500 ),反向漏特性,LD特性。
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