產(chǎn)品概述

       該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩(wěn)定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導(dǎo)體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導(dǎo)體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

測量范圍: 1 nm -50um    

波長范圍: 200 nm -1000 nm

MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。

測量指標(biāo)：薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)

界面友好*: 一鍵式測量和分析。

實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。

（MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示 ）

案例1，73nm SiN氮化硅薄膜的測量

硅晶圓反射率，測量時間10ms

使用Tauc-Lorentz模型，測量SiN薄膜的n和k值