系統(tǒng)介紹：

JL-hcl-200型激光氣體分析儀是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)原理，對特定波長的氣體吸收譜線進行掃描分析，并結(jié)合數(shù)字化的鎖相放大器及長光程氣室等*技術(shù)實現(xiàn)氣體的濃度測量。為目前的氣體測量方法之一，該儀表具有靈敏度高、響應速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式測量等特點，為實時準確地反映HCL變化提供了可靠保證。

產(chǎn)品特點：

快速的響應時間

光譜多線掃描，可消除粉塵、焦油以及背景氣干擾
免維護設(shè)計，使用成本低
可選隔爆式設(shè)計

性能參數(shù)：

產(chǎn)品參數(shù)：

檢測氣體：HCL

檢測量程：0-200mg/m³（量程可選）

分辨率：0.1mg/m³

重復性：≤1%FS

線性度：≤1%FS

響應時間：≤90s

漂移：≤±1%FS

功能參數(shù)：

預熱：30min

數(shù)字輸出：RS232/485

模擬輸出：4-20mA負載900Ω

電源：AC100-240V/47-63Hz/3W

應用領(lǐng)域：
市政焚燒爐

醫(yī)療廢物焚燒爐

水泥廠 
制藥廠

化工廠