應(yīng)用領(lǐng)域

冶金、鑄造、機(jī)械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

可檢測基體

鐵基

光學(xué)系統(tǒng)

帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

波長范圍

140~680nm

光柵焦距

401mm

探 測 器

高性能CMOS陣列

光源類型

數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）

放電頻率

100-1000Hz

放電電流

400A

工作電源

AC220V 50/60Hz 1200W

儀器尺寸

780*565*360mm

儀器重量

約78kg

檢測時(shí)間

依據(jù)樣品類型而定，一般20S左右

電極類型

鎢材噴射電極

分析間隙

4mm

其他功能

真空，溫度，軟件自動(dòng)控 壓力，通訊監(jiān)測