光解除臭設(shè)備構(gòu)造：

　　由微波發(fā)生器、離子臭氧發(fā)生器、控制箱、中效過(guò)濾、光觸媒、外箱體組成光解除臭設(shè)備采用高能UV紫外線，在光解凈化設(shè)備內(nèi)，裂解氧化惡臭物質(zhì)分子鏈，改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化為低分子無(wú)害物質(zhì)，其脫臭效率可99%，脫臭效果大大超過(guò)國(guó)家1993年頒布的惡臭物質(zhì)排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93)，能處理氨、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、苯、苯乙烯、二硫化碳、三甲胺、二甲基二硫醒等高濃度混合氣體，內(nèi)部光源可使用三年，設(shè)備壽命在十年以上，凈化技術(shù)可靠且非常穩(wěn)定，凈化設(shè)備無(wú)須日常維護(hù)，只需接通電源即可正常使用，且運(yùn)行成本低，無(wú)二次污染。

　　光解除臭設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：

　　1、高效率凈化能力

　　2、設(shè)備穩(wěn)定性及少安裝空間;

　　3、無(wú)二次污染物產(chǎn)生;

　　4、不需要添加化學(xué)藥劑;

　　5、維修管理方便，運(yùn)行費(fèi)用低;