名稱

1200℃多坩堝依次移動(dòng)型管式爐--OTF-1200X-II-ZL

開(kāi)啟式管式爐

雙溫區(qū)管式爐：兩個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)分別獨(dú)立控制兩個(gè)溫區(qū)

加熱區(qū)長(zhǎng)度：溫區(qū)1:200mm, 溫區(qū)2:200mm

爐管材料：高純石英

爐管尺寸：外徑: 60 ×內(nèi)徑: 54×長(zhǎng): 760 mm

溫度曲線圖(兩個(gè)溫區(qū)設(shè)置在800℃時(shí)所測(cè)，僅供參考）

工作溫度：1200℃（<1hr)

連續(xù)工作溫度：1100℃

控溫精度：+/-1℃

真空密封

配有不銹鋼密封法蘭，上面安裝有不銹鋼截止閥和機(jī)械壓力表。

進(jìn)氣端法蘭接口為Φ6.35卡套接頭，出氣端法蘭接口為KF25接口。

法蘭密封圈采用水冷卻，使用時(shí)需要通入冷卻水，可在本公司選購(gòu)循環(huán)水冷機(jī)。

真空度：10E-2 torr（采用機(jī)械泵），10-E5 torr(采用分子泵)。

坩堝移動(dòng)機(jī)構(gòu)（轉(zhuǎn)輪式法蘭）

一根鎧裝熱電偶通過(guò)左端法蘭通入到爐管內(nèi)部，并與坩堝相連接(圖1)。

通過(guò)步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)使坩堝移動(dòng)，并和熱電偶和坩堝一起移動(dòng)，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)樣品的溫度。

進(jìn)氣端法蘭轉(zhuǎn)輪式法蘭（圖2）。

可同時(shí)在轉(zhuǎn)輪系統(tǒng)中放入4個(gè)坩堝，可交替將放入4種材料的石英坩堝自動(dòng)送入到石英管中（可在真空狀態(tài)或氣氛保護(hù)狀態(tài)進(jìn)行運(yùn)作）。

坩堝移動(dòng)控制

通過(guò)一步進(jìn)電機(jī)控制坩堝移動(dòng)的速度和位置。

可控制坩堝較小移動(dòng)位移為1mm。

坩堝較大移動(dòng)距離為200mm。

防腐型數(shù)顯真空計(jì)

配有一數(shù)顯防腐型真空計(jì)。

當(dāng)氣壓在10mbar以上時(shí)，不需因測(cè)量氣體種類不同而進(jìn)行系數(shù)轉(zhuǎn)換。

對(duì)于氣體的壓力檢測(cè)具有較高的精確度和重復(fù)性。

因?yàn)閭鞲衅魃襄冇型繉?，所以具有較好的抗腐蝕性。

測(cè)量范圍：3.8x10-5 -1125 Torr。

混氣系統(tǒng)

此套設(shè)備中配有一2路混氣系統(tǒng)

輸出功率：18W

工作溫度：5-45℃

氣壓：3×106Pa

精度：±1%FS

質(zhì)量流量計(jì)量程：

1:0-100sccm

2:1-199sccm

可根據(jù)客戶要求選購(gòu)1-5路供氣系統(tǒng)

產(chǎn)品尺寸

2400mm（L）×600mm（W）×1300（H）mm

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期，相關(guān)耗材除外，如爐管加熱元件密封圈易耗件

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證

所有電器元件（>24V）都通過(guò)UL/MET/CSA認(rèn)證

若客戶出認(rèn)證費(fèi)用，本公司保證單臺(tái)設(shè)備通過(guò)德國(guó)TUV認(rèn)證或CSA認(rèn)證。

國(guó)家

名稱：一種小型熱等靜壓爐裝置

編號(hào)：ZL-.0

使用注意事項(xiàng)

爐管內(nèi)氣壓不高于0.02MPa。

由于氣瓶?jī)?nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí)，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購(gòu)減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時(shí)會(huì)更加精確安全。

當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí)，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)。

進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管的沖擊。

石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度<1100℃。

對(duì)于樣品加熱是實(shí)驗(yàn)，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱，則需要時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開(kāi)泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）

應(yīng)用注意事項(xiàng)

此款管式爐具有多種用途。

熱蒸發(fā)：把蒸發(fā)料放在坩堝里，通過(guò)移動(dòng)坩堝來(lái)精確找到所需要的蒸發(fā)溫度。

HPCVD：和熱蒸發(fā)相似，可通入反應(yīng)氣體與蒸發(fā)的物料反應(yīng)后再沉積。

可用于制作多層二維晶體。

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