名稱

生長納米線的CVD爐 --OTF-1200X-4-NW

視頻

儀表操作視頻

工作溫度

CVD爐：

工作溫度：1100℃（<2hour）

連續(xù)工作溫度：200~1000℃

升溫和降溫速率：10℃/min

小加熱器：

連續(xù)工作溫度：0~500℃

升溫和降溫速度：10℃/min

加熱區(qū)

CVD爐：400mm

小加熱器：150mm

爐子和預(yù)加熱器

緊湊型CVD爐是由OTF-1200X-4單溫爐演變而來。

內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命

石英管：4.33" OD×4.05"ID ×15" L 工作溫度：1100℃

右邊帶樣品支架的法蘭是滑動的，方便操作在加熱器和CVD爐之間的法蘭是預(yù)加熱氣體的通道，同時也起密封作用。

在爐子左側(cè)的小加熱器是對輸入CVD爐的氣體、液體、固體或混合物進行預(yù)加熱。

1.2" OD×6"L SS作為加熱腔小加熱器工作溫度：600℃

左邊法蘭具有密封性和氣體通道的作用。

溫度控制

CVD爐和加熱器

PID/自整定的數(shù)字控制，具有30段可控程序

熱偶：K type

控溫精度：±1℃

K型熱電偶

可用計算機進行控制，相關(guān)硬件和軟件如下（選配）

真空和密封法蘭

CVD爐：右法蘭：

水冷避免O型圈融化（水冷機可選配）

KF25真空快接（可與真空泵、波紋管、真空閥等連接）

可滑動使客戶操作更簡單，樣品可快速送入和取出。

一個石英樣品支架（3"dia），與石英擋板滑動法蘭連成一體。

左法蘭（在CVD爐和小加熱器之間），裝有4個，1/4"卡套連接的通氣管。

法蘭上有兩個獨立1/4"口，可單獨將任何氣體通入CVD爐。

一路1/4"口將預(yù)熱氣體通入CVD爐。

一路1/4"口將不加熱的氣體通入CVD爐（在CVD爐內(nèi)，通過“T"性結(jié)構(gòu)與加熱氣體匯合。）

額定電壓

單相AC220V，50/60Hz。

額定功率

3KW（要求20A空開）

外形尺寸

1200（L）×450(W)×510(H) mm

重量

100Kg

質(zhì)量認證

CE Certified

質(zhì)保期

電器部分保修一年（耗材：爐管、O型圈、加熱元件等不包含在內(nèi)）。