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制藥純水設(shè)備采用模塊化設(shè)計，基于預處理、氧化消毒、多介質(zhì)過濾、RO反滲透、UV消毒、EDI連續(xù)去離子和儲存外輸?shù)裙δ軉卧?，將的水處理技術(shù)、優(yōu)質(zhì)工藝和嚴格的質(zhì)量控制融入到每個單元。根據(jù)用水標準的差異，最終產(chǎn)水設(shè)備通過各功能模塊的優(yōu)化組合而成，確保整個系統(tǒng)的高性能和高質(zhì)量，使產(chǎn)水達到或超過純化水和注射用水的水質(zhì)標準。制藥純水設(shè)備的應用領(lǐng)域包括：1. 電解電容器生產(chǎn)中鋁箔和工作件的清洗；2. 電子管、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中的配料用純水；3. 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等過程中的純水需求；4. 液晶顯示器生產(chǎn)中屏面的純水清洗和純水配液；5. 晶體管生產(chǎn)中硅片的清洗。制藥純水設(shè)備裝置的要求：1. 結(jié)構(gòu)設(shè)計應簡潔、可靠、易于拆裝。2. 執(zhí)行機構(gòu)設(shè)計應盡量采用標準化、通用化、系統(tǒng)化的零部件，以便于拆卸、更換和清洗。3. 設(shè)備內(nèi)外壁表面要求光滑、平整、易清洗、易滅菌。零件表面應進行鍍鉻等表面處理，以防止腐蝕和生銹。設(shè)備外部避免使用油漆，以防剝落。4. 制備超純水設(shè)備應采用低碳不銹鋼或其他經(jīng)過驗證不污染水質(zhì)的材料。制備純化水的設(shè)備應定期清洗，并驗證清洗效果。5. 接觸注射用水的材料必須是低碳不銹鋼（如316L不銹鋼）或其他經(jīng)過驗證不對水質(zhì)產(chǎn)生污染的材料。制備注射用水的設(shè)備應定期清洗，并驗證清洗效果。6. 純化水儲存周期不宜超過24小時。儲罐應采用不銹鋼材料或無毒、耐腐蝕、不滲出污染離子的其他材料制作。通氣口應安裝防脫落纖維的疏水性除菌濾器。儲罐內(nèi)壁應光滑，接管和焊縫不應有死角和沙眼。應采用不會形成滯水污染的液面、溫度、壓力等參數(shù)的傳感器。儲罐需定期清洗、消毒滅菌，并驗證清洗、滅菌效果。