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儀器用途：CW400LMDT-8大平臺(tái)明暗場(chǎng)芯片檢查顯微鏡是適用于半導(dǎo)體晶圓的檢驗(yàn)、芯片封裝、電路基板、材料等行業(yè)的理想儀器

詳細(xì)介紹

儀器用途：

CW400LMDT-8″大平臺(tái)明暗場(chǎng)芯片檢查顯微鏡是適用于半導(dǎo)體晶圓的檢驗(yàn)、芯片封裝、電路基板、材料等行業(yè)的理想儀器。可進(jìn)行偏光、暗視場(chǎng)及明視場(chǎng)觀察轉(zhuǎn)換。暗視場(chǎng)功能對(duì)觀察材料表面缺陷有特殊效果。配置大視野目鏡和長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡(無蓋玻片)，視場(chǎng)大而清晰。專門設(shè)計(jì)的大移動(dòng)范圍載物臺(tái)，移動(dòng)范圍:8"×8"(204mm×204mm)，滿足半導(dǎo)體行業(yè)的需求。粗微動(dòng)同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)，粗動(dòng)松緊可調(diào)，帶限位鎖緊裝置，微動(dòng)格值:0.7μm。三目鏡筒，可進(jìn)行99%透光攝影。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、目鏡筒：三目鏡，轉(zhuǎn)軸式，傾斜30度、360°旋轉(zhuǎn)

2、目鏡：大視野 WF10X/22mm

3、無窮遠(yuǎn)平場(chǎng)消色差明暗場(chǎng)專用物鏡:

PL L 5X/0.12 B.D 工作距離(Work distance)：9.7 mm

PL L10X/0.25 B.D 工作距離(Work distance)：9.3 mm

PL L20X/0.40 B.D 工作距離(Work distance)：7.2 mm

PL L50X/0.70 B.D 工作距離(Work distance)：2.5 mm

PL L80X/0.80 B.D 工作距離(Work distance)：1.25 mm

轉(zhuǎn)換器：內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位五孔轉(zhuǎn)換器

4、總放大倍數(shù)：50X-800X

5、聚焦鏡：可調(diào)式阿貝聚焦鏡NA1.25，孔徑光闌，濾色片。

6、大工作臺(tái)：三層機(jī)械移動(dòng)式，尺寸:280mmX270mm,移動(dòng)范圍（X*Y）:204mmX204mm

7、調(diào) 焦：粗微動(dòng)同軸調(diào)焦,升級(jí)范圍25mm，微動(dòng)格值:0.7μm,帶鎖緊和限位裝置

8、落射照明系統(tǒng)：柯勒照明，落射照明12V50W，鹵素?zé)袅炼瓤烧{(diào)，內(nèi)置式視場(chǎng)光闌、孔徑光闌（黃、藍(lán)、綠、磨砂玻璃）濾色片轉(zhuǎn)換裝置，推拉式檢偏器與起偏器。

9、正交偏光裝置

10、防霉

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CW400LMDT-8″大平臺(tái)明暗場(chǎng)芯片檢查顯微鏡

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